Особенности формирования диэлектрических покрытий ВЧ распылением

В 1930 г. фирма Вестерн Электрик применила метод конного распыления для нанесения тонкого слоя золота на первые восковые оригиналы грамофонных пластинок фирмы Эдифон. С появлением электронно-лучевого испарения ионное распыление для получения пленок тугоплавких материалов, таких, например, как Та, W и А12О3 стало использоваться все реже. Однако углубление понимания процесса ионного распыления и открытие высокочастотного распыления диэлектриков привели к выявлению таких важных преимуществ способа ионного распыления, которые в ряде случаев делают его предпочтительным. В каждом конкретном случае необходимо сопоставлять этот метод с другими известными методами осаждения пленок, которые могут быть, в частности, более производительными или более дешевыми. [6]

Кинетика реакций разложения была исследована Рикертом [181] для Ag2S, Ag2Se и Cul, которые использовались как модельные вещества. Процессу испарения предшествует образование молекул В2 в адсорбированном состоянии, атомы же металла диффундируют и образуют зародыши и кристаллиты. Для большинства боридов [182], карбидов и нитридов металлов [151] наблюдается аналогичный механизм. Во всех этих случаях пленка либо не образуется вообще, либо ее состав существенно отличается от состава исходного материала. Среди окислов следует отметить Сг2О3 и Fe2O3, которые переходят в низшие окислы е малой летучестью. При испарении из вольфрамовых лодочек осаждаются пленки низших окислов неопределенного состава. В общем случае пленки низших окислов и с недостатком кислорода могут быть нагревом на воздухе превращены в пленки высших окислов. Однако необходимые для этого температуры часто оказываются слишком высокими для подложки или при таких температурах происходит реакция, в результате которой появляются большие напряжения, пористость или уменьшается адгезия пленок. Поэтому для этих веществ более предпочтительными являются другие методы испарения, такие как реактивное испарение, реактивное распыление или высокочастотное распыление. [7]

Список использованной литературы

1. Епифанов Г. И., Мома Ю. А. Физические основы конструирования и технологии РЭА и ЭВА: Учебное пособие для вузов. - М.: Советское радио, 1979. - 352 с.

2. Вакуумное нанесение пленок в квазизамкнутом объеме. М., «Советское радио», 1975, 160 с./ Ю. З. Бубнов, М. С. Лурье, Ф. Г. Старос, Г. А. Филаретов.

3. Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. В 10 кн.: Учеб. Пособие для ПТУ. Кн. 6. Нанесение пленок в вакууме / Минайчев В. Е. - М.: Высш. шк., 1989. - 110 с.: ил.

4. Ефимов И. Е. и др. Микроэлектроника. Физические и технологические основы, надежность. Учеб. Пособие для вузов. М: «Высш. школа», 1977. - 416 с. с ил.

5. Карпенко Г. Д., Рубинштейн В. Л. Современные методы генерации осаждаемого вещества при нанесении тонкопленочных покрытий в вакууме. Минск: БелНИИНТИ, 1990 - 36 с.

6. Костржицкий А. И., Лебединский. Многокомпонентные вакуумные покрытия. -М: «Машиностроение»,1987 - 207 с.

7. Бутовский К. Г., Лясников В. Н. Напыленные покрытия, технология и оборудование. - Саратов.: «Саратовский госуд. техн. университет»,1999 - 117 с.

8. Кудинов В. В., Бобров Г. В. Нанесение покрытий напылением. Теория, технология и оборудование. - М.: «Металлургия», 1992 - 431 с.

9. О.С.Трушин, В.Ф.Бочкарев, В.В.Наумов. Моделирование процессов эпитаксиального роста пленок в условиях ионно-плазменного напыления.//Микроэлектроника, 2000, том 29, №4, стр. 296-309

10. Ю. В. Цветков, С. А. Панфилов. Низкотемпературная плазма в процессах восстановления.- М.: Наука, 1980.- 360 с.

11. С. В. Дресвин, А. В. Донской, В. М. Гольдфарб, В. С. Клубникин. Физика и техника низкотемпературной плазмы.- М.: Атомиздат, 1972.- 352 с.

12. В. В. Кудинов, Г. В. Бобров. Нанесение покрытий напылением. Теория, технология и оборудование. М.: Металлургия, 1992.431 с.

13. В. Л. Дзюба, Г. Ю. Даутов, И. Ш. Абдуллин. Электродуговые и высокочастотные плазмотроны в химико-технологических процессах.- Киев: Вигца школа, 1991.- 170 с.

14. Донской А. В., Клубникин В. С. Электроплазменные процессы и установки в машиностроении.- Л.: Машиностроение, 1978.221 с.

15. Бабат Г. И. Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вопросы.- Вестник электропромышленности, 1942, № 2, с. 1 12.

16. Бабат Г. И. Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вопросы.- Вестник электропромышленности, 1942, № 3, с. 1 8.

17. Babat G. I. Electrodeless discharges and some allied problems.-Journal of the Inatitution of Electrical Engineers', 1947. V. 94. part III A, p. 27 37.

18. Dundas P. H., Thorpe M. L. Economics and technology of chemical processing with Electric-field plasmas.- Chemical engineering, 1969, V. 76, № 14, p. 123 128.

19. Высокочастотный индукционный плазмотрон с пористым охлаждением разрядной камеры. / А. Н. Бабаевский, А. Б. Гугняк,

20. A. JI. Вечер, JI. И. Киселевский, JI. М. Сорокин, д. К. Скутов.-Тезисы докладов VIII Всесоюзн. конф. по генераторам низкотем-пер. плазмы. Новосибирск, 1980, т. 3, с. 115 118.

21. Reed Т. В. Induction-Coupled plasma torch J. Appl. Phys., 1961, V. 32, № 5, p. 821 - 824.

22. Moroner A., Hushfar F. Radio frequency heating of a dense moving plasma.- A.J.A.A. Electric Propulsion Conference in Colorado Springs. Colorado Springs, 1963, March, p. 11 13.

23. Гольдфарб В. M., Дресвин С. В. Оптическое исследование распределения температуры и электронной концентрации в аргоновой плазме.- Теплофиз. выс. температур,. 1965, т.З, вып.З, с. 333 -339.

24. Исследование плазменного факела высокочастотной горелки. / С. В. Дресвин, А. В. Донской, В. М. Гольдфарб,

25. B. С. Клубникин.- Теплофиз. выс. температур, 1967, т.5, вып.4, с. 549 556. ' '

26. Read t. b. Heat-transfer onterisity from induction plasma flames and oxyhydrogen flames.- J. Appl. Phys., 1963, V. 34, № 8, p. 2266 -2269.

27. Высокочастотный безэлектродный плазмотрон при атмосферном давлении. / Ф. Б. Вурзель, Н. Н. Долгополов, А. И. Максимов, JL С. Полак, В. И. Фридман.- В кн.: Низкотемпературная плазма. М., 1967, с. 419 431.

28. Ровинский Р. Е., Белоусова JI. Е., Груздев В. А. Геометрия безэлектродного разряда, индуцируемого, в инертных газах.- Теплофиз. высок, температур, 1966, т.4, вып.З, с. 328 335.

29. Ровинский Р. Е., Груздев В. А., Широкова И. П. Об энергетическом балансе стационарного индуцированного разряда,- Теплофиз. высок, температур, 1966, т.4, вып.1, с.35Е- 39ю

30. Molinet M. F. Etude de la repartition de la temperature electronique a l'interieur d'un plasma d'argon produit par un generatuer M.F.C.R.- Aredd. Sci. Ser., B, 1966, V. 262 , №21, p. 1377 1380.

31. Jonston P. D. Temperature and electron density measuremenis in an R-f discharge in argon.- Phys. Letters, 1966, V. 20, № 5, p. 499 -500.

32. Определение температуры в стационарном высокочастотном индукционном разряде. / Р. Е. Ровинский, В. А. Груздев, Т. М. Гу-тенмахер, А. П. Соболев.- Теплофиз. высок, температур, 1967, т.5, вып.4, с. 557 561.

33. Оптические свойства плазмы безэлектродного разряда в воздушном потоке. / Ю. А. Буевич, В. М. Николаев, В. А. Пластинин, Г. Ю. Силачев, М. И. Якушие.- Журнал прикл. мех. и техн. физ., 1968, № 6, с. 111 116.

34. Кононов С. В., Якушин М. И. К определению интенсивности удельных тепловых потоков к поверхности в струях высокочастотного безэлектродного плазмотрона на воздухе.- Журнал прикл. мех. и техн. физ., 1966, № 6, с. 67 68.

35. Кулагин И. Д., Сорокин JT. М. Определение электрических параметров индукционного разряда в газе при атмосферном давлении. Физ. и хим. обр. матер., 1969, № 5, с. 3 12.

36. Кулагин И. Д., Рыкалин Н. Н., Сорокин JI. М. Подобие индукционных разрядов при нагреве газа,- Физ. и хим. обр. матер., 1970, № 5, с. 137 139.

37. Кулагин И. Д., Сорокин Л. М. Экспериментальное исследование индукционного плазмотрона. Физ. и хим. обр. матер., 1979, № 1, с. 3-8.

38. Индукционио-плазменный нагрев газа и перспективы его. промышленного применения. / Н. Н. Рыкалин, И. Д. Кулагин,

39. Л. М. Сорокин, А. Б: Гугняк.- В сб.: Плазменные процессы в металлургии и технологии неорганических материалов. М., 1973, с. 14-20.

40. И. Д. Кулагин, Л. М. Сорокин, В. В. Шевченко. Электромагнитные поля в реальном ненагруженном индукторе. Физ. и хим. обр. матер., 1976, № 1, с. 41 47.

41. И. Д. Кулагин, Л. М. Сорокин, В. В. Шевченко. Об индукционном нагреве проводящих цилиндров,- Физ. и хим. обр. матер., 1976, № 2 с. 143 47.

42. Физ. и хим. обр. матер., 1980, № 4, с. 32 34.

43. Reboux J. Chalumean a plasma hayte frequence ¦ et hautas temperatures.- Ingenieurs et tehnicens, 1962, № 157, p. 115 125.

44. Reed Т. В. Growth of refractory crystals asing the induction plasma torch.- J. Appl. Phys., 1961, v. 32, № 12, p. 2534 2535.

45. Некоторые особенности процессов выращивания тугоплавких кристаллов в высокочастотных плазменных горелках. / А. В. Донской, С. В. Дресвин, К. К. Воронин, Ф. К. Волынцев.-Теплофиз. высок, температур, 1965, т.З, вып.4, с. 627 631.

46. Рыкалин Н. Н. Плазменные процессы в металлургии и обработке материалов.- Физ. и хим. обр. матер., 1967, № 2, с. 3 17. ¦

47. Плазменные процессы в получении сферических порошков тугоплавких материалов. / А. Б. Гугняк, Е. Б. Королева, И. Д. Кулагин, В. И. Михалев, В. А. Петрунчев, JI. М. Сорокин.- Физ. и хим. обр. матер., 1967, № 4, с. 40 45.

48. Лакомский В. И., Мельник Г. А. Сфероидизация в высокочастотном плазменном разряде порошка окиси алюминия.- Порошковая металлургия, 1966, № 2, с. 6 9.

Размещено на Allbest.ru