Ионное ассистирование в процессах образования тонкопленочных структур на поверхности твердого тела

Ионное ассистирование - метод формирования тонкопленочных слоев, основанный на ионной бомбардировке выращиваемой фазы. Характеристики оборудования для исследования процессов ионного ассистирования и процесса ионно-лучевого нанесения тонких пленок.

Рубрика Производство и технологии
Предмет Вакуумное напыление
Вид отчет по практике
Язык русский
Прислал(а) vanya
Дата добавления 09.11.2014
Размер файла 4,7 M

Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже

Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.


Подобные документы

  • Физические особенности процесса ионного легирования. Анализ влияния технологических параметров на процесс ионной имплантации, распределение внедренных примесных атомов, радиационные дефекты. Схема устройства для ионной имплантации, методы моделирования.

    реферат [17,2 K], добавлен 25.12.2009

  • Получение тонкопленочных покрытий в вакууме, термическое и магнетронное испарение. Конструирование жидкофазного магнетрона с помощью AutoCAD. Методы исследования параметров тонких пленок. Измерение толщины тонкопленочных покрытий с помощью профилометра.

    дипломная работа [4,1 M], добавлен 15.06.2012

  • Технологии, связанные с нанесением тонкопленочных покрытий. Расчет распределения толщины покрытия по поверхности. Технологический цикл нанесения покрытий. Принципы работы установки для нанесения покрытий магнетронным методом с ионным ассистированием.

    курсовая работа [1,4 M], добавлен 04.05.2011

  • Методы напыления и физические основы нанесения тонких пленок, основные требования и системы оборудования для нанесения тонких плёнок, элементы вакуумных систем и устройство вакуумных камер для получения тонких плёнок. Экономическое обоснование проекта.

    дипломная работа [4,2 M], добавлен 01.03.2008

  • Обзор современного оборудования для получения тонких пленок. Материалы и конструкции магнетронов для ионного распыления тонких пленок. Назначение, конструктивные элементы рабочей камеры установки "Оратория-5". Основные неисправности, методы их устранения.

    курсовая работа [1,8 M], добавлен 24.03.2013

  • Влияние условий осаждения на структуру, электрические и магнитные свойства пленок кобальта. Рентгеноструктурные исследования пленок кобальта. Влияние условий осаждения на морфологию поверхности и на толщину пленок. Затраты на амортизацию оборудования.

    дипломная работа [2,2 M], добавлен 24.07.2014

  • Расчет параметров электрохимической обработки детали. Изучение процессов на поверхности твердого тела при вакуумном ионно-плазменном напылении порошка борида циркония. Анализ показателей температурных полей при наплавке покрытия плазменно-дуговым методом.

    курсовая работа [2,5 M], добавлен 06.12.2013

  • Кривая намагничивания, температура Кюри, коэрцитивная сила. Характеристики магнитных материалов. Подготовка к напылению. Термообработка тонких пленок в вакууме. Термообработка по патенту. Расчет защит, заземления для установки вакуумного напыления.

    курсовая работа [2,2 M], добавлен 22.06.2015

  • Проектирование пьезоэлектрического измерителя влажности для контроля технологических сред: разработка структурной, функциональной и принципиальной схем. Рассмотрение методов формирования тонкопленочных структур. Описание производства измерителя.

    дипломная работа [364,1 K], добавлен 27.03.2010

  • Принцип электронно-лучевого нагрева - кинетическая энергия потока ускоренных электронов при бомбардировке поверхности вещества превращается в тепловую энергию, оно же нагревается до температуры испарения. В работе рассматривается данная технология.

    реферат [595,0 K], добавлен 03.01.2009

  • Механизмы и стадии протекания процессов химического осаждения из газовой фазы для получения функциональных слоев ИМС, их технологические характеристики. Методы CVD и их существенные преимущества. Типы реакторов, используемых для процессов осаждения.

    курсовая работа [1,6 M], добавлен 06.02.2014

  • Общая характеристика и сущность вакуумного напыления. Реактивный метод нанесения покрытий конденсацией с ионной бомбардировкой (метод КИБ). Обзор гальванического метода нанесения покрытий. Изнашивание при трении по стали и по полированной стали.

    курсовая работа [993,4 K], добавлен 08.12.2012

  • Термическое вакуумное напыление. Плазмоионное распыление в несамостоятельном газовом разряде. Технология тонких пленок на ориентирующих подложках. Механизмы эпитаксиального роста тонких пленок. Электронно-лучевое напыление. Молекулярно-лучевая эпитаксия.

    курсовая работа [853,9 K], добавлен 03.03.2011

  • Ионный источник - устройство для получения направленных потоков (пучков) ионов. Типовые схемы ионно-лучевой обработки поверхностей и объектов в вакууме. Разработка технологического процесса сборки источника очистки ионного. Принцип работы устройства.

    курсовая работа [790,7 K], добавлен 02.05.2013

  • Коррозионная стойкость окрашенных изделий. Удаление окисных пленок. Обезжиривание, абразивная очистка, травление, фосфатирование, хроматирование, пассивирование. Классификация процессов нанесения металлических покрытий. Требования к готовым покрытиям.

    презентация [180,4 K], добавлен 28.05.2014

  • Анализ условий эксплуатации детали "Шток" соединительного узла компрессора. Выбор марки стали детали, разработка и обоснование технологического процесса термической обработки. Сущность и преимущества процесса упрочнения детали ионным азотированием.

    курсовая работа [15,2 M], добавлен 16.10.2012

  • Методы физической, химической модификации пленок. Производство химически модифицированных пленок. Физическая сущность метода каландрования. Технология производства поливинилхлоридных пленок, производимых деформационным способом. Метод прокатки, строгания.

    курсовая работа [806,1 K], добавлен 04.01.2010

  • Оценка характеристик контактного взаимодействия. Влияние анизотропии поверхности твердого тела и наличие волнистости на параметры контактирования. Определение топографических параметров и фрактальной размерности эквивалентной изотропной поверхности.

    реферат [567,0 K], добавлен 23.12.2015

  • Определение реакций опор твердого тела, реакций опор и сил в стержнях плоской фермы. Равновесие сил с учетом сцепления. Определение положения центра тяжести тела. Определение скорости и ускорения материальной точки по заданным уравнениям ее движения.

    курсовая работа [4,0 M], добавлен 05.11.2011

  • Соскабливание тонких слоев материала с поверхности заготовки с помощью инструмента. Инструменты и приспособления, применяемые при шабрении. Способы шабрения плоских и сопряженных поверхностей. Организация рабочего места и требования безопасности труда.

    реферат [416,0 K], добавлен 16.05.2009

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу.