Основы метода магнетронного распыления материалов и технологии тонких пленок

Исследование влияния режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO. Назначение ионно-плазменного оборудования и процессы нанесения тонкопленочных функциональных покрытий на подложки большой площади.

Рубрика Производство и технологии
Предмет Основы технологии материалов
Вид реферат
Язык русский
Прислал(а) Раффа Владислав
Дата добавления 25.12.2020
Размер файла 96,8 K

Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже

Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.


Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу.