П’єзоопір у тонких шарах і мікрокристалах кремнію та германію р-типу провідності і сенсори на їх основі

Проведення теоретико-групової класифікації деформаційних ефектів в алмазоподібних напівпровідниках і встановлення на цій основі дозволених фізичних моделей п’єзорезистивного ефекту в p-Si та p-Ge. Теоретичне вивчення п’єзоопору в кремнії та германії.

Рубрика Физика и энергетика
Вид автореферат
Язык украинский
Дата добавления 05.01.2014
Размер файла 43,8 K

Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже

Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.

Размещено на http://www.allbest.ru/

ДЕРЖАВНИЙ УНІВЕРСИТЕТ "ЛЬВІВСЬКА ПОЛІТЕХНІКА"

АВТОРЕФЕРАТ

дисертації на здобуття наукового ступеня кандидата фізико-математичних наук

П'єзоопір у тонких шарах і мікрокристалах кремнію та германію р-типу провідності і сенсори на їх основі

Панков Юрій Михайлович

Львів - 1999

Анотація

Панков Ю.М. П'єзоопір у тонких шарах і мікрокристалах кремнію та германію р-типу провідності і сенсори на їх основі. - Рукопис.

Дисертація на здобуття наукового ступеня кандидата фізико-математичних наук за спеціальністю 01.04.01 - фізика приладів, елементів і систем. - Державний університет "Львівська політехніка". Львів, 1999.

Дисертацію присвячено комплексному експериментальному і теоретичному вивченню п'єзоопору в Si та Ge р-типу провідності для розробки на цій основі сенсорів механічних величин. Проведена теоретико-групова класифікація деформаційних ефектів у алмазоподібних напівпровідниках і встановлені дозволені фізичні моделі п'єзорезистивного ефекту в p-Si та p-Ge. Досліджено п'єзоопір в широкому діапазоні різнополярних деформацій -1,2 %...+1% і визначені деформаційні залежності їх констант п'єзо- та еластоопору. Встановлено, що у деформованих Si та Ge як важкі, такі легкі дірки характеризуються наборами ефективних мас, які залежать від енергії та деформації. Визначено взаємозв'язок п'єзоопору та структури в тонких шарах Si та Ge. Істотного покращання характеристик сенсорів досягнуто завдяки використанню лазерно-рекристалізованих КНІ-структур.

Ключові слова: п'єзоопір, кремній, сенсор, лазерна рекристалізація.

п'єзоопора кремній германій фізичний

1. Загальна характеристика роботи

Актуальність теми. Сучасний етап розвитку твердотільного приладобудування характеризується розробкою напівпровідникових сенсорів, здатних працювати в екстремальних умовах, а також використанням нових технологій мікроелектроніки та мікромеханіки. При цьому на даний час кремній р-типу провідності є основним активним матеріалом сенсорів механічних величин, що зумовлено лінійністю його деформаційних характеристик порівняно з матеріалом n-типу. Натомість п'єзорезистивний ефект саме у Si та Ge р-типу недостатньо вивчений як теоретично, так і експериментально, особливо при значних, до 1%, різнополярних деформаціях.

Модельні уявлення про процеси переносу в деформованих Si та Ge на мікроскопічному рівні детально розроблені також лише для напівпровідників n-тиру. Це пояснюється відносною зручністю побудови моделей при вивченні впливу одновісного напруженого деформування (ОНД) на еквівалентні долини в низькосиметричних точках зони Бріллюена (ЗБ): дозволеністю лінійного деформаційного потенціалу El ~ та пов'язаною з цим можливістю лінійних залежностей міждолинного перерозподілу електронів з деформацією . Відомі з літератури моделі п'єзоопору в діркових Sі та Ge також базуються на дозволеності лінійного деформаційного перерозподілу концентрацій різних гатунків дірок.

Мікрокристали, вирощені з газової фази, завдяки своїй структурній досконалості, є як зручним модельним матеріалом для дослідження різноманітних деформаційних ефектів, так і унікальною елементною базою для створення високочутливих сенсорів для роботи в екстремальних умовах. З іншого боку, тонкі шари - перспективний матеріал для мікроелектронних сенсорів, оскільки вони здатні забезпечити високий ступінь інтеграції та серійноздатність технології.

Зв'язок роботи з науковими програмами, планами, темами. Дослідження виконувались за планом науково-дослідної роботи ДУ "Львівська політехніка" відповідно до напрямків науково-дослідних робіт кафедри напівпровідникової електроніки за програмою Міносвіти України: "Створення багато-функціональних мікроелектронних сенсорів на основі рекристалізованих шарів полікремнію та напівпровідникових мікрокристалів" (шифр Полісенсор), програмою ДКНТ України "Застосування технології лазерної рекристалізації шарів полікремнію на діелектрику для створення інтегральних приладів мікромеханіки та оптоелектроніки" (шифр 04.01.01/015-95) та госпдоговірних робіт. Тeматика роботи із створeння сeнсорiв включeна в європeйську програму "NEXUSPAN-NEXUS".

Мета і задачі дослідження. Метою роботи є комплексне експериментальне і теоретичне вивчення п'єзоопору в кремнії та германії р-типу провідності для розробки на цій основі сенсорів механічних величин.

Досягнення мети вимагало розв'язання таких завдань:

проведення теоретико-групової класифікації деформаційних ефектів в алмазоподібних напівпровідниках і встановлення на цій основі дозволених фізичних моделей п'єзорезистивного ефекту в p-Si та p-Ge;

експериментальне дослідження п'єзоопору p-Si та p-Ge в широкому діапазоні різнополярних деформацій, визначення констант п'єзо- та еластоопору та їх деформаційних залежностей;

побудови мікроскопічної моделі п'єзоопору Si та Ge р-типу в широкому діапазоні деформацій з урахуванням деформаційної залежності спін-орбітального відщеплення;

встановлення основних закономірностей взаємозв'язку структури та п'єзоопору тонких шарів Si та Ge та їх впливу на параметри сенсорів механічних величин.

Наукова новизна одержаних результатів:

1. Уперше експериментально досліджено п'єзоопір у кремнію та германію р-типу в широкому діапазоні різнополярних ОНД деформацій -1,2% ...+1% і визначено деформаційні залежності їх констант п'єзо- та еластоопору.

2. Уперше показано, що у деформованих Si та Ge як важкі, так і легкі дірки характеризуються наборами ефективних мас, які значною мірою залежать від енергії та деформації.

3. Уперше показано, що використовуючи базис незвідних тензорних представлень, можна деталізувати правила відбору для тензорів анізотропних деформаційних ефектів в алмазоподібних напівпровідниках.

4. Удосконалено мікроскопічну модель п'єзоопору ОНД Si та Ge р-типу провідності, яка вперше враховує деформаційну залежність спін-орбітального відщеплення so-зони і добре узгоджується з теоретико-груповими правилами відбору.

5. Уперше показано, що вплив деформації на енергетичний спектр важких та легких дірок може бути записаний в інваріантному тензорному вигляді, а відповідні зонні параметри та деформаційні константи утворюють контраваріантні тензори 4-го рангу.

6. Уперше виявлено значний вплив деформації на процеси розсіяння дірок за участю міжзонних переходів між гілками важких та легких дірок.

7. На основі моделювання п'єзоопору полікремнію вперше показано, що потенційні бар'єри на міжзерених границях (МЗГ) незначною мірою впливають на деформаційну зміну анізотропії опору в рекристалізованих КНІ-структурах.

Достовірність отриманих результатів грунтується на використанні теоретико-групових методів, які, як відомо, є максимально надійними та природними, оскільки вони основані лише на симетрії напівпровідникового кристала, а також забезпечується вимірюванням п'єзоопору за відомими експериментальними методиками. Вірогідність та точність розрахунків підтверджується незначними розбіжностями результатів теоретичного аналізу та експерименту.

Практичне значення одержаних результатів:

1. На основі експериментального дослідження п'єзоопору в мікрокристалах доведена можливість розширення граничного деформаційного діапазону п'єзорезистивних сенсорів механічних величин до 0,3%.

2. Показано, що коефіцієнт тензочутливості є технічною неінваріантною характеристикою п'єзоопору і не може бути підставою для висновку про придатність матеріалу для створення мікроелектронних п'єзорезистивних сенсорів.

3. У рекристалізованих лазером шарах полікремнію додатково до мікросиметрії виникає значно нижча макросиметрія, яку необхідно враховувати під час проектування топології чутливих елементів мікроелектронних сенсорів.

4. Активація структуроутворення під час іонно-плазмового осадження шарів Ge дозволяє скеровано змінювати їх п'єзорезистивні властивості.

5. Запропоновано нові технічні рішення побудови мікроелектронних п'єзорезистивних сенсорів на основі КНІ-структур, що передбачають практичне використання орієнтуючої лазерної рекристалізації для покращання їх характеристик.

Прикладні результати виконаних досліджень покладено в основу розроблених сенсорів механічних величин, які використані на АТ "Родон" (м. Івано-Франківськ) та НВП "Полісенсор" (м. Львів). Результати розробок сенсорів захищені патентами.

Особистий внесок здобувача. У публікаціях, написаних у співавторстві, здобувачеві належать: експериментальне дослідження та визначення констант п'єзоопору [1-2, 4-7, 10, 13-14], теоретико-груповий аналіз деформаційних ефектів [2], мікроскопічна модель п'єзоопору [2, 9], визначення взаємозв'язку структури та п'єзоопору [1-2, 4-6, 8, 12], вдосконалення методики розробки сенсорів та нові технічні рішення їх побудови [3, 15-18].

Апробація роботи. Основні результати роботи доповідались та були опубліковані в матеріалах таких конференцій і семінарів: 5th Intern. Workshop on Thermal Investigations of IC's and Systems, (THERMINIC, Rome, 1999); 4th Symposium Diagnostics & Yield - SOI materials (Warsaw,1998); NATO Advanced Research Workshop (Kyiv, 1998); 2-nd Intern. Sympos. on Microelectronic Technologies and Microsystems (Lviv, 1998); 11th Europ. Conf. on Solid-State Transducers (EUROSENSORS XI, Warsaw, 1997); 3rd Intern. Workshop on Thermal Investigations of IC's and Microstructures (Cannes, 1997); Second Int.School-Conf. Phys. Problems in Mater. Sci. of Semiconductors (Chernivtsi, 1997) та інш.

Публікації. Основні матеріали дисертації викладені в 19 наукових працях, перелік яких поданий у кінці автореферату. З них 13 статей у реферованих виданнях, 4 патенти та авторські свідоцтва, 1 депонований рукопис.

Структура та обсяг дисертації. Дисертація складається зі вступу, п'яти розділів, висновків, списку використаних джерел та 3 додатків. Загальний обсяг роботи становить 176 сторінок, 57 рисунків та 12 таблиць. Бібліографія містить 125 найменувань.

2. Основний зміст роботи

У вступі обґрунтовується актуальність теми, визначена мета роботи, описано наукову новизну та практичну цінність результатів, а також подано інформацію про апробацію роботи.

У першому розділі розглянуто основні положення континуальної лінійної теорії нескінченно малих та скінченних деформацій кристалічної гратки напівпровідника та його зони Бріллюена з теоретико-групової точки зору: 6-параметрична група однорідних деформацій є характеристикою фактор-простору GL3(R)/SO(3). Здійснено макроскопічний (феноменологічний) опис впливу деформації на ефекти переносу в напівпровідниках, розроблена теоретико-групова класифікація деформаційних ефектів переносу в алмазоподібних напівпровідниках з точковими кубічними групами Td та Oh.

Згідно з принципом Кюрі симетрія тензорів деформаційних ефектів описується відомою редукцією на точкову групу прямого (тензорного) добутку відповідних незвідних представлень ортогональної групи O(3):

D(j) G p, (1)

де D(j) - незвідне представлення ваги j повної ортогональної групи, G - його редукція на точкову підгрупу G, незвідні представлення точкової підгрупи з кратністю p, - пряма сума.

На основі розкладу прямого добутку незвідних представлень повної ортогональної групи O(3) у ряд Клебша-Гордана для просто звідної групи

D(i) D(j) =(2)

визначено базис незвідних тензорних представлень як орбіт точкової групи відносно прямого добутку ортогональних груп (G) (O(3)...O(3))/G:

T(i k) T(j n) =,(3)

де T(ik) - частина тензора k-го рангу, яка перетворюється за незвідним представленням D(i). Водночас індекс k зазначає еквівалентні представлення. Оскільки група O(3) проста, такий орбітний простір не має групової структури. Для тензорів 4-го і вище рангів виникають тензорні базиси, що перетворюються за скалярним представленням D(0), однак не можуть бути зведені до скалярів (або псевдоскалярів) відносно групи O(3). Ця обставина надає можливість уточнення правил відбору. У таблиці 1 наведено результати розрахунків відбору дозволеного базису незвідних тензорних представлень групи O(3) для деформаційних ефектів у алмазоподібних напівпровідниках.

Табл. 1. Правила відбору базисів незвідних тензорних представлень.

D(j)

Дозволений тензорний базис незвідних представлень

C1={E}

Td

Oh

SO(3)

= 0

Dev 0

= 0 Sp 0

Dev 0

= 0 Sp 0

Dev 0

= 0 Sp 0

Dev 0

D(0) D(0+)

D(1)

D(2)

D(2+)

D(3) D(3)

D(4)

D(4+)

T(22)

T(22+)

3j=1T(j3)

4j=0T(j4)

4j=0T(j4+)

5j=1T(j5)

5j=1T(j5+)

6j=2T(j6)

6j=2T(j6+)

T(02)

T(02+)

0

0

0

0

0

T(46)

T(46+)

0

0

0

T(04)

T(44)

T(04+)

T(44+)

T(45)

T(45+)

T(46)

T(66)

T(46+)

T(66+)

0

T(02+)

0

0

0

0

0

0

0

T(44+)

0

0

0

0

T(04+)

T(44+)

0

T(45+)

0

T(46+)

T(66+)

0

T(02+)

0

0

0

0

0

0

0

0 0

0

0

T(04+)

0

0

0

0

З табл. 1 випливає, зокрема, що у Si та Ge довільні скалярні величини в точці (зсуви енергетичних зон, перерозподіл концентрацій носіїв і т. п.) не можуть мати лінійних членів відносно анізотропної (девіаторної частини) деформації:

T(22+)() = Dev = - 1/3Sp .(4)

Тензор еластоопору m визначається за відомим виразом:

ik = о (1 + miklr lr) (5)

і в алмазоподібному напівпровіднику має симетрію:

D(m) = {D(1)}2 { D(1)}2 =

(2D(0+)+D(1+)+3D(2+)+D(3+)+D(4+)) Oh 2D(0+)+D(4+). (6)

Тут і надалі підсумовування з явним зазначенням індексів lk відбувається за індексами l,k а підсумовування без зазначення індексу - за всіма індексами, що повторюються.

Розклад тензора еластоопору в цьому базисі має вигляд:

m = I1(m)T(02+) + I2(m)T(04+) + I3(m)T(44+), (7)

де Ii(m) - такі інваріанти:

I1(m) = 1/9 Spm = 1/3 (m11 + 2m12),

I2(m) = 4/15 (m11 m12 + 3m44), (8)

I3(m) = 2/5 (m11 m12 2m44).

Використовуючи аналогічні незвідні представлення симетрії інших кінетичних коефіцієнтів показано, що всі п'єзокінетичні та п'єзомагнітні ефекти у деформованих алмазоподібних напівпровідниках мають подібну симетрію, описуються однаковою кількістю констант (інваріантів) і, відповідно, мають подібний базис.

Різновидом відомого метода інваріантів винайдено явний вигляд матриць цих незвідних тензорів і наведено їх зв'язок зі сферичними гармоніками.

З виразів (6) та (7) випливає, що всі тензори четвертого рангу деформаційних ефектів Т можна інваріантно розкласти на структурно-незалежну частину Тi3 та залежну від структури анізотропну частину Тан:

Т = Тi3 + Тан;Ti3 = T(02+)(T) + T(04+)(T), Tан = T(44+)(T), (9)

У другому розділі показано вплив деформації на вироджені зони важких, легких та спін-орбітально відщеплених дірок у Si та Ge. Показано, що у відповідності до чотирикратного виродження енергетичного спектру вплив скінченої деформації на зони важких (l=1) і легких дірок (l=2) можна записати у інваріантному тензорному вигляді, симетричному відносно добутків kikj супутньої деформованої системи координат хвильового ковектора та тензора деформації :

El(k,) = A k2 + a Sp + (1)l (Bijmn ki kj km kn + 2Dijmn ki kj mn + dijmn ij mn)1/2, (10)

де Bijmn, Dijmn, dijmm - узагальнені контраваріантні тензори зонних параметрів та деформаційних констант. Для представлення Г8+ ці тензори мають наступні компоненти:

Biiii = B2, Biimm = B2/2, Bijmn = D2/4, Diiii = B b, Diimm = Bb/2,

Dijmn = Dd/4, diiii = b2, diimm = b2/2, dijmn = d2/4, ij, mn, (11)

де A,B,D - зонні параметри, a, b, d - деформаційні константи валентної зони.

Розщеплення зон важких та легких дірок у центрі ЗБ дорівнює

E = 2(dijmn ij mn)1/2 (12)

На однопараметричних підгрупах Лі деформації розщеплення E ~ не є ана-літичною функцією деформації в околі 0. У багатопараметричному випадку E ~ ij2 при 0.

Для врахування спін-орбітально від-щепленої (so) зони (l=3), що має симетрію представлення Г7+, приймалося відоме нелі-нійне за деформацією наближення енерге-тичного спектра в околі k0, яке отримане методом інваріантів. У Si вплив so-зони на розщеплення зон проявляється в значних від хиленнях від співвідношення (12) та нелі-нійному зростанні so з де-формацію. У Ge вплив so-зо-ни є відчутним лише при значних деформаціях ||>0,6 %.

Запропоновано зручну розрахункову формулу для визначення густини станів gl (E,) l- го гатунку носіїв у деформованому напівпро-віднику: міра, що виникає при усередненні елемента об'єму dk3 по ізоенергетич-ній поверхні SE:

gl (E,)dE = ?dk3) = <Jl1>dE = ,(13)

де dSE = d1d2 - елемент поверхні в довільних координатах (1,2) ізо-енергетичної поверхні; Jl - матриця Якобі заміни координат (E,1,2) (k1,k2,k3).

Ефективні маси густини станів дірок mdl у деформованих Si та Ge визначались порівнянням чисельно розрахованих за виразом (13) густин станів l-го гатунку дірок у деформованому напівпровіднику з відповідним виразом для стандартної (ізотропної та параболічної) зони:

(2mdl(E,))3/2 E1/2 (22ћ3) = Jl1>. (14)

Залежно від енергії та деформації ці маси змінюються у декілька разів, а при малих енергіях інтервали їх значень перетинаються.

Привертає увагу стрибкоподібна поведінка ефективних мас в околі E0, 0:

,(15)

що є наслідком неаналітичності зонного спектру на однопараметричних підгрупах деформації в околі k0, 0. Для Ge залежності ефективних мас аналогічні. Значення хімпотенціалу розраховували чисельно, виходячи з рівня легування бором й умови незмінності концентрації дірок при анізотропній деформації. Хімпотенціал збільшується як при стиску, так і при розтягу, тобто з деформацією виродження діркового газу зростає.

У третьому розділі проведено аналіз відомих експериментальних та теоретичних результатів дослідження п'єзоопору монокристалічного Si та Ge р-типу провідності, з якого зроблено висновок, що основним результатом дії деформації на опір цих напівпровідників є виникнення анізотропії при майже незмінній скалярній частині опору. Цей висновок є фізичною основою концепції створення високочутливих мікроелектронних сенсорів механічних величин. Експериментальні дослідження п'єзоопору у широкому діапазоні різнополярних ОНД деформацій відсутні. Зазначено, що всі відомі з літератури моделі переносу в діркових Sі та Ge напівпровідниках базуються на модифікації моделі, яка описана в роботах Г.Л. Біра та Г.Е. Пікуса за аналогією до електронних напівпровідників: можливість лінійних деформаційних залежностей у перерозподілі концентрацій важких та легких дірок при анізотропній деформації. Використання такої моделі для пояснення відомих лінійних змін опору з деформацією суперечить правилам відбору.

Наведено особливості методики та виготовлення зразків мікрокристалів для вивчення п'єзорезистивного ефекту при значних різнополярних деформаціях. Показано, що коефіцієнт тензочутливості є зручною технічною характе-ристикою, але не описує фізичну властивість (п'єзоопір) у деякому кристало-графічному напрямку, залежить від пружного стану кристала, і тому не може бути підставою для висновку про придатність матеріалу для створення мікро-електронних п'єзорезистивних сенсорів. Розраховані константи п'єзо- та ела-стоопору і їх деформаційні залежності та показана можливість розширення граничного деформаційного діапазону сенсорів механічних величин.

Побудована мікроскопічна модель п'єзоопору ОНД Si та Ge з врахуванням деформаційної залежності спін-орбітально розщеплення. Вплив деформації на опір розраховували за відомим для недеформованих Si та Ge р-типу методом: виходячи із спрощеної системи кінетичних рівнянь Больцмана для нерівно-важних функцій розподілу важких та легких дірок у наближенні окремих часів релаксації ll для переходів у межах l-ї зони та відповідно lm для lm міжзон-них переходів. Приймали наближення ізотропної імовірності пружного розсіян-ня Wlm(k,k',) з незалежними від деформації інтегралами перекриття блохів-ських періодичних амплітуд Ilm().

Показано, що розщеплення зон явно входить лише у час релаксації 12 пере-ходів із зони важких до деформаційно-відщепленої зони легких дірок:

12-1(E,) = W12(k,k', ).I12()EXP(-E/кТ) J1-1(,k,,) (16)

Часи релаксації 11, 22, 21 інших переходів залежать від деформації лише через усереднення із залежним від деформації якобіаном (13):

lm-1(E,) = Wlm(k,k',).Ilm().Jl-1(,k,,). (17)

Вплив деформації на відповідний механізм розсіяння характеризували у термінах відповідних ефективних мас, які визначали подібно до ефективних мас густини станів (14): порівнянням розрахованих часів релаксації lm(E,) з ві-домими співвідношеннями для стандартної зони:

lm(E,) = o.Er mls(E,). (18)

Подібно до ефективних мас густини станів ці маси також значною мірою залежать від енергії та деформації і мають стрибки, що описуються співвід-ношенням (15), з тих самих причин. Аналогічно, усередненням по ізоенер-гетичній поверхні квадрату швидкості та порівнянням зі стандартною зоною, визначали ефективні маси швидкості.

На відміну від вищенаведених мас, поведінка ефективних мас швидкості якісно змінюється зі зміною знака деформації: вони значною мірою залежать від енергії та деформації лише при ОНД розтягу і майже постійні при дефор-мації стиску. Електропровідність при ОНД розраховували відповідно до прийнятої моделі за виразом

, (19)

де vl = h-1(kEl)[111] - швидкість дірки l -ї зони у напрямку,

f0l - рівноважна функція розподілу,

l-1 = (j)lm-1 (20)

- сумарний час релаксації, а підсумовування відбувається за всіма зонами легких, важких та спін-орбітально відщеплених дірок та за j-тим механізмом розсіяння.

Результати розрахунків для Si разом з експе-риментальними значеннями та обчисленням за відомою моделлю з лінійним деформаційним потенціалом та еліпсоїд-ними ізоенергетичними поверхнями. Розходження теоретичної кривої з eкспе-риментальними точками при деформації розтягу > 0,7% імовірно викликано спрощеним урахуванням впливу so-зони. Модель з лінійним де-формаційним потенціалом задовільно описує п'єзоопір лише при значних де-формаціях стиску: E>>кТ. Варіюванням деформаційного потенціалу у залеж-ностях (,d)/0 розраховані значення констант d: -5,21 еВ для Si та -4,47 еВ для Ge, які добре узгоджуються з відомими даними, що отримані за іншими методиками.

У четвертому розділі розглянуто п'єзоопір у тонких шарах Si та Ge. На-ведені особливості технології орієн-туючої лазерної рекристалізації структур кремній-на-ізоляторі (КНІ) як найбільш перспективної для створення мікро-електронних сенсорів механічних величин. На основі експериментального дослідження п'єзоопору тонких шарів Si та Ge розраховані константи еласто-опору та показано взаємозв'язок структури з п'єзоопором при різних способах отримання шарів. В шарах полі-Si після лазерної рекристалізації додатково до кубічної мікросиметрії виникає значно нижча макросиметрія D4h, прояви якої необхідно враховувати під час проектування топології мікроелектронних сен-сорів. Вимірювання показали зростання в полікремнію скалярної частини тензора еластоопору T(02+)(m) до 7...10 порівняно з її експериментальним зна-ченням для монокристалічного р-Si з такою ж концентрацією дірок Gгc = 1/9Spm 4,7.

Для дослідження впливу міжзеренних границь на п'єзоопір використовували відому модель термоемісійно-дифузійного переносу носіїв крізь потенційні бар'єри на МЗГ.

Практично потенційні бар'єри на міжзерених границях впливають на деформаційну зміну анізотропії опору лише нере-кристалізованого дрібнокристалічного полікремнію з концентрацією бору менше 3.1019 см3.

Проведені дослідження структури та п'єзоопору гетероепітаксійних та полікристалічних шарів р-Ge показали, що активація процесів струк-туроутворення під час іонно-плазмового осадження плівок дозволяє скеровано змінювати їх п'єзорезистивні властивості. Величина скалярної частини тензора еластоопору також зростає порівняно з монокристалом.

Розробка сенсорів механічних величин на основі мікрокристалів та шарів Si та Ge розглянута у п'ятому розділі. На підставі теоретико-групової класи-фікації і фізичної моделі п'єзоопору розроблена концепція створення мікро-електронних п'єзорезистивних сенсорів механічних величин, яка базується на анізотропному пружному елементі, п'єзорезистивному ефекті при анізотропній деформації та вимірюванні анізотропної частини опору DevR.

Запропоновано інваріантний критерій () визначення оптимальності пруж-ного стану на поверхні анізотропного чутливого елемента мікроелектронного сенсора на основі евклідової норми анізотропної частини тензора механічних напружень X:

. (21)

Означений таким чином -критерій інваріантно визначає частину дефор-мації, яка розщеплює вироджену зону. Для пружних станів, які звичайно вико-ристовуються у сенсорах 0,6...0,7, хоча max=1. Звідси випливає пер-спективність та необхідність пошуку нових анізотропних пружних елементів.

На підставі розробленої концепції спроектовано та виготовлено мікроелектронні сенсори тиску та зусилля з лазерно-рекристалізованими КНІ-структурами. Запропоновано для збільшення руйнівної міцності мікроелектронних сенсорів використовувати пружні елементи зі сильно легованого (>1019 см3) кремнію. Показано значну перевагу структурно-досконалих мікрокристалів Si та Ge для виготовлення сенсорів на граничний діапазон деформацій ±1%. Розроблені сенсори і за основними параметрами: - вихідним сигналом 50...100 мВ та температурним діапазоном -60...+150 0С, робочою частотою до 100...200 кГц - не поступаються сенсорам провідних зарубіжних фірм: "Motorola", "Endevco", "Honeywell" та ін.

Основні результати та висновки

На підставі теоретико-групової класифікації деформаційних ефектів та створеної мікроскопічної моделі уточнено механізм п'єзоопору Si та Ge р-типу: розщеплення вироджених зон легких та важких дірок у нерозривному поєднанні зі зміною їх ізоенергетичних поверхонь, відомі моделі п'єзоопору діркових Si та Ge з незмінними ізонергетичними поверхнями задовільно описують п'єзоопір лише при значних деформаціях стиску: E>>кТ.

Встановлено, що у деформованих Si та Ge p-типу як важкі, так і легкі дірки характеризуються наборами ефективних мас, які мають різноманітні, в тому числі немонотонні залежності від енергії та деформації.

На підставі експериментального дослідження п'єзорезистивного ефекту в мікрокристалах Si та Ge показана можливість значного розширення граничного деформаційного діапазону п'єзорезистивних сенсорів механічних величин до 0,3%.

Із теоретико-групового аналізу ефектів переносу в деформованих Si та Ge випливає, що тензори деформаційних ефектів можна інваріантно розкласти на структурно-незалежну частину та залежну від структури анізотропну частину.

Моделюванням п'єзоопору полікремнію р-типу показано, що потенційні бар'єри на міжзерених границях впливають на деформаційну зміну анізотропії опору лише в нерекристалізованому дрібнокристалічному матеріалі.

Оптимізація мікроструктури шарів полікремнію в КНІ-структурах при орієнтуючій лазерній рекристалізації призводить до значного (1,5...2 рази) збільшення їх п'єзоопору і, відповідно, до істотного покращання характеристик сенсорів.

Представлена фізична концепція створення мікроелектронних п'єзорезистивних сенсорів на основі запропонованого інваріантного критерію пружного стану анізотропного чутливого елемента та вимірюванні анізотропної частини тензора опору показує напрямок їх подальшого вдосконалення.

На основі структурно-досконалих мікрокристалів Si та Ge створені унікальні сенсори значних (1%) пружних деформацій.

Запропоновано нові технічні рішення побудови мікроелектронних п'єзорезистивних сенсорів на основі КНІ-структур, які основними параметрами не поступаються виробам провідних зарубіжних фірм.

Основні результати дисертації опубліковані в роботах

Druzhinin A., Lavitska E., Maryamova I., Pankevich I., Pankov Y. Electrical and piezoresistive characterisation of laser recrystallized polysilicon layers in SOI stryctyres // Electron Technology. - 1999. - V.32. - No.1/2. - P.146-150.

Druzhinin A., Maryamova I., Lavitska E., Pankov Y. Physical aspects of multifunctional sensors based on piezothermomagnetic effects in semiconductors // Sensors and Actuators: A. Physical. - 1998. - V.68. - No.1-3. - P.229-233.

Лавитская Е.Н., Марьямова И.Й., Дружинин А.А., Панков Ю.М. Влияние структуры на пьезосопротивление тонких слоев поликремния //Неорганические материалы. -1996. - Т.32. - №10. - С.1162-1164.

V.A. Voronin, I.I. Maryamova, A.A. Druzhinin, E.N. Lavitska, Y.M.Pankov SOI pressure sensors based on laser recrystallized polysilicon / Physical and Technical Problems of SOI Structures and Devices. Ed. by J.P.Collinge et al. Kluwer Academic Publishers, Netherlands. - 1995. - P.281-286.

Drushinin A.A., Maryamova I.I., Kogut I.T., Pankov Y.M. New generation of mechanical sensors on the basis of laser-recrystallized poly-Si layers //Sensors and Actuators. - 1992.V.30. - No.1-2. - P.27-33.

Дружинін А.А., Мар`ямова І.Й., Костур В.Г., Панков Ю.М. Дослідження тензорезистивних властивостей рекристалізованих полікремнієвих шарів //Фізична електроніка. - 1992. - 42. - С.83-88.

Дружинин А.А., Марьямова И.Й., Костур В.Г., Панков Ю.М. Пьезорезистивные сенсоры на основе структур кремний-на-изоляторе //Метрология. - 1991. - 5. - С.20-25.

Марьямова И.Й., Панков Ю.М. Тонкопленочные тензорезисторы, полученные ионно-плазменным распылением //Приборы и системы управления. - 1989. - №7. - С.31-32.

Тхорик Ю.А., Марьямова И.Й., Панков Ю.М. К расчету нелинейности тензопреобразователей на основе полупроводников с вырожденными зонами //Физическая електроника. - 1989. - №39. - С.33-39.

Марьямова И.Й., Панков Ю.М. Тонкопленочные германиевые тензорезисторы, полученные ионно-плазменным распылением //Радиодетали и радиокомпоненты. - 1987. - Вып.1(268). - С.33-39.

Панков Ю.М. Активизация процессов структурообразования в пленках кремния и германия под воздействием ионной бомбардировки //Физическая електроника, 1985. - №31. - С.69-73.

Марьямова И.Й., Панков Ю.М., Ворошило Г.И. Электрические свойства и структура тонкопленочных германиевых тензорезисторов //Физическая електроника. - 1982. - № 24. - С.95-96.

Марьямова И.Й., Панков Ю.М., Ворошило Г.И., Романюк Н.Н. Иследование тензометрических характеристик пленок германия //Физическая електроника. - 1980. - № 21. - С.133-136.

Сандулова А.В., Марьямова И.Й., Заганяч Ю.Й., Панков Ю.М., Ворошило Г.И. Полупроводниковые тензорезисторы с расширенным диапазоном деформаций //Приборы и системы управления. - 1976. - № 1. - C.23

Пат. 23103 А Україна, МКB G01L9/06, H01L21/28. П'єзорезистивний датчик /Панков Ю.М., Дружинін А.А., Мар'ямова І.Й. (Україна). 4 с.; Опубл. 30.06.98, Бюл. №3.

Пат. 3059 Україна, МКB G01L9/04. Тензометричний датчик тиску /Панков Ю.М., Мар'ямова І.Й. (Україна). - 4 с.; Опубл. 26.12.94, Бюл. №5-1.

Пат. 2029264 Российская Федерация, МКB G01L9/04. Тензометрический датчик давления /Панков Ю.М., Марьямова І.Й. (Україна). - 4 с.; Опубл. 20.02.95, Бюл. №5.

А.с. 977937 СССР, МКИ G01B7/18. Способ измерения динамических деформаций /Чекурин В.Ф., Панков Ю.М. (СССР).- 3230996/25-28; Заявлено 06.01.81; Опубл. 30.11.82, Бюл. №44. - 3с.

Размещено на Allbest.ru

...

Подобные документы

  • Види оптичних втрат фотоелектричних перетворювачів. Спектральні характеристики кремнієвих ФЕП. Відображення в інфрачервоній області спектру ФЕП на основі кремнію. Вимір коефіцієнта відбиття абсолютним методом. Характеристика фотометра відбиття ФО-1.

    курсовая работа [3,6 M], добавлен 17.11.2015

  • Природа і спектральний склад сонячного світла, характер його прямого та непрямого енергетичного перетворення. Типи сонячних елементів на основі напівпровідникових матеріалів. Моделювання електричних характеристик сонячного елемента на основі кремнію.

    курсовая работа [2,3 M], добавлен 17.06.2014

  • Коливання ребристих оболонок на пружній основі з використанням геометрично нелінійної теорії стержнів і оболонок типу Тимошенка. Взаємодія циліндричних та сферичних оболонок з ґрунтовим середовищем. Чисельні алгоритми розв'язування динамічних задач.

    автореферат [103,4 K], добавлен 10.04.2009

  • Методи створення селективних сенсорів. Ефект залежності провідності плівки напівпровідникових оксидів металів від зміни навколишньої атмосфери. Види адсорбції. Природа адсорбційних сил. Установка для вимірювання вольт-амперних характеристик сенсора.

    контрольная работа [1,1 M], добавлен 27.05.2013

  • Види магнітооптичних ефектів Керра. Особливості структурно-фазового стану одношарових плівок. Розмірні залежності магнітоопіру від товщини немагнітного прошарку. Дослідження кристалічної структури методом електронної мікроскопії та дифузійних процесів.

    контрольная работа [1,5 M], добавлен 19.04.2016

  • Закони постійного струму. Наявність руху електронів у металевих проводах. Класифікація твердих тіл. Механізм проходження струму в металах. Теплові коливання грати при підвищенні температури кристала. Процес провідності в чистих напівпровідниках.

    реферат [33,6 K], добавлен 19.11.2016

  • Поведінка частки при проходженні через потенційний бар'єр, суть тунельного ефекту, його роль в електронних приладах. Механізм проходження електронів крізь тонкі діелектричні шари, перенос струму в тонких плівках. Суть тунельного пробою і процеси в діоді.

    реферат [278,0 K], добавлен 26.09.2009

  • Фізичні основи процесу епітаксія, механізм осадження кремнію з газової фази. Конструкції установок для одержання епітаксійних шарів кремнію. Характеристика, обладнання молекулярно-променевої епітаксії. Легування, гетероепітаксія кремнію на фосфіді галію.

    курсовая работа [2,6 M], добавлен 29.10.2010

  • Вплив умов одержання, хімічного складу і зовнішніх чинників на формування мікроструктури, фазовий склад, фізико-хімічні параметри та електрофізичні властивості склокерамічних матеріалів на основі компонента з фазовим переходом метал-напівпровідник.

    автореферат [108,5 K], добавлен 11.04.2009

  • Система Pb-S. Константи рівноваги квазіхімічних реакцій утворення власних атомних дефектів Френзеля у кристалах Pb-S. Константи рівноваги квазіхімічних реакцій утворення власних атомних дефектів у халькогенідах свинцю на основі експериментальних даних.

    дипломная работа [1,4 M], добавлен 09.06.2008

  • Електроліти, їх поняття та характеристика основних властивостей. Особливості побудови твердих електролітів, їх різновиди. Класифікація суперпріонних матеріалів. Анізотпрапія, її сутність та основні положення. Методи виявлення суперіонної провідності.

    дипломная работа [1,1 M], добавлен 12.02.2009

  • Експериментальне дослідження й оцінка термо- і тензорезистивних властивостей двошарових плівкових систем на основі Co і Cu, Ag або Au та Fe і Cr та апробація теоретичних моделей. Феноменологічна модель проміжного шару твердого розчину біля інтерфейсу.

    научная работа [914,9 K], добавлен 19.04.2016

  • Характеристика основних даних про припої та їх використання. Особливості пайки напівпровідників, сполук припоїв і режимів пайки германія й кремнію. Сполуки низькотемпературних припоїв, застосовуваних при пайці германія й кремнію. Паяння друкованих плат.

    курсовая работа [42,0 K], добавлен 09.05.2010

  • Кристалічна структура металів та їх типові структури. Загальний огляд фазових перетворень. Роль структурних дефектів при поліморфних перетвореннях. Відомості про тантал та фазовий склад його тонких плівок. Термодинамічна теорія фазового розмірного ефекту.

    курсовая работа [8,1 M], добавлен 13.03.2012

  • Прості матеріали високої провідності та їх сплави. Надпровідники та кріопровідники. Параметри надпровідникових матеріалів. Сплави високого опору та спеціальні сплави. Контактні матеріали. Неметалеві провідники. Характеристика, властивості інших металів.

    реферат [52,3 K], добавлен 25.11.2010

  • Сущность понятий магнетизма, ферромагнетизма, магнитной анизотропии, доменов. Анализ явления гистерезиса в ферромагнетике, перехода из парамагнетика в ферромагнетик и природа ферромагнетизма. Методы исследования тонких ферромагнитных пленок, их сравнение.

    дипломная работа [6,5 M], добавлен 05.11.2009

  • Тонкопленочные слои; назначение тонких пленок, методы их нанесения. Устройство вакуумного оборудования для получения тонких пленок. Основные стадии осаждения пленок и механизмы их роста. Контроль параметров технологических процессов и осажденных слоев.

    курсовая работа [2,2 M], добавлен 11.09.2014

  • Умови спостереження фоторефрактивного ефекту. Голографічна інтерферометія в реальному часі та за допомогою двох довжин хвиль. Поняття про обернену хвилю. Ефект енергообміну фазомодульованих світлових пучків. Двохекспозиційна голографічна інтерферометрія.

    курсовая работа [2,0 M], добавлен 19.06.2010

  • История развития устройств хранения данных на магнитных носителях. Причины появления доменов, а также запоминающие устройства на тонких магнитных пленках. Доменная структура тонких магнитных пленок. Запоминающие устройства на гребенчатых структурах.

    курсовая работа [1,0 M], добавлен 23.12.2012

  • Исходные соотношения теории теплопроводности и термоупругости тонких изотропных оболочек. Применение двумерного интегрального преобразования Фурье к исходным соотношениям. Сведение задачи теплопроводности к системам сингулярных интегральных уравнений.

    дипломная работа [405,8 K], добавлен 11.06.2013

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу.