Перспективные направления наземной фотоэнергетики
Структуры с селективным эмиттером и пассивацией поверхности двухслойным покрытием. Солнечные элементы на основе гетеропереходов кремний - аморфный кремний (Si-а-Si). Термодинамические потери мощности, связанные с генерацией "горячих" носителей тока.
Рубрика | Физика и энергетика |
Вид | статья |
Язык | русский |
Дата добавления | 16.11.2018 |
Размер файла | 2,6 M |
Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже
Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.
Размещено на http://www.allbest.ru/
Перспективные направления наземной фотоэнергетики
Ф.А. Ахмедов, д.ф-м.н.
ОАО «НПП «Квант», г. Москва
В настоящее время около 90 % промышленного производства фотопреобразователей наземного применения приходится на элементы на основе кристаллического кремния (рис. 1). Однако эффективность преобразования кремниевых элементов остается еще низкой и поэтому много внимания уделяется на разработку технологий, позволяющих, с одной стороны поднять эффективность преобразования, с другой найти решения кардинального повышения КПД преобразования энергии излучения Солнца используя новые физические явления. В настоящее время в массовом производстве используются три вида структур.
Рис. 1.
Структуры с селективным эмиттером и пассивацией поверхности двухслойным покрытием
Уменьшение глубины залегания р-п перехода, которое позволяет существенно увеличить коротковолновую чувствительность элемента и поднять КПД преобразо-вания, создало проблемы с получением хорошего контакта к таким тонким слоям при массовом производстве. Её удалось решить методом углубления р-п перехода на местах контактной металлизации (селективности эмиттера) (рис. 2). При этом КПД промышленно изготовляемых элементов вырос до 19 % за счет доведения слоевого сопротивления до 100 ом/? и улучшения степени пассивации поверхности. В настоящее время КПД элементов с селективным эмиттером и двухслойной пассивацией поверхности в массовом производстве достиг ~ 20 %.
Солнечные элементы с п-типом базы
Структура солнечного элемента с п-типом базы давно привлекает внимание исследователей благодаря времени жизни неосновных носителей заряда в таком материале и отсутствию комплексов бор-кислород, приводящих к начальной деградации параметров элемента под воздействием света. На основе п-типа материала изготавливаются также солнечные элементы с контактами на тыльной стороне (рис. 3), КПД которых находится в пределах 21 - 23 %.
солнечный селективный ток кремний
Солнечные элементы на основе гетеропереходов кремний - аморфный кремний (Si-а-Si)
Солнечные элементы на основе гетеропереходов Si-а-Si (рис. 4) выделяются среди прочих, прежде всего высоким КПД (~ 24 % ? Sanyo Electric Co., Panasonic). Кроме этого они имеют отличные значения температурного коэффициента мощности и обеспечивают потенциальную возможность использования тонких (~ 80 - 100 мкм) пластин. Структура элемента, состоящая из n+-а-Si-n-c-Si-p-а-Si слоев, создается при температурах ниже 200о С, причем переход на p-а-Si на фронтальной и на n+-а-Si на тыльной поверхностях осуществляется через тонкий i слой собственной проводимости а-Si. Благодаря наличию сверхтонкого i слоя а-Si на границе гетероперехода было получено рекордно высокое напряжение холостого хода ~ 0,750 В.
Рис.2
Рис.3
Рис.4
Ресурс этих структур по повышению эффективности преобразования солнечного излучения еще не исчерпан. В настоящее время стоит задача по созданию технологии промышленного производства кремниевых солнечных элементов (СЭ) с КПД ~ 25 %.
Теперь остановимся о некоторых направлениях исследований по повышению КПД.
Известно, что ограничение КПД полупроводниковым СЭ связано как с фундаментальными потерями, так и потерями мощности, связанными со световыми, рекомбинационными и омическими потерями. К фундаментальным потерям относятся:
- 1) потери мощности за счет излучений, с энергией, меньшей ширины запрещенной зоны полупроводника (Еg), кванты которых пролетают сквозь полупроводник без поглощения.
- 2) потери мощности связанные с генерацией «горячих» носителей тока, когда при поглощении кванта излучения с энергией больше Еg материала световая энергия передается валентному электрону, который первоначально окажется высоко в зоне проводимости (станет горячим электроном), а затем, взаимодействуя с атомами кристалла, теряет «избыточную» энергию до тех пор, пока его температура не сравняется с температурой решетки и он не окажется на дне зоны проводимости. Разница между первоначальной энергией и энергией «остывшего» электрона и есть потери на «горячих электронах».
- 3) термодинамические потери ? это: а) потери связанные с невозможностью преобразования в СЭ кинетической энергии электрона, которая в реальных условиях будет тем выше энергии «дна» зоны проводимости, чем выше температура. Величина этих потерь равна 3/2 кТс, где к - постоянная Больцмана, Тс - температура; б) потери связанные со снижением напряжения холостого хода элемента (Voc) с температурой. При максимальном фотовозбуждении Voc элемента становится равным контактной разности потенциалов, которая по своему значению при абсолютном нуле равна Еg материала. При однократном освещении напряжение холостого хода будет расти с уменьшением и снижаться с повышением температуры кристалла. Эти термодинамические потери уменьшаются с понижением температуры и исчезают при температуре абсолютного нуля.
Термодинамические потери по своему значению не значительны по сравнению с потерями с потерями за счет низкоэнергетических квантов и потерями за счет генерации «горячих» носителей тока. Они связаны с Еg полупроводника. Чем меньше Еg, тем больше квантов поглощается в данном материале. Но при этом растет количество квантов, у которых энергия будет выше, чем Еg, т.е. будут расти потери, связанные с генерацией горячих носителей тока. Поэтому у зависимости эффективности преобразования солнечного излучения от Еg материала имеется максимум, за пределами которого эффективность уменьшается как при больших Еg, так и при меньших Еg. Этот максимум соответствует Еg = 1,32 эв, при этом значение максимальной эффективности равно 31 %, которое снижается при Еg, отличной от указанного значения. Так, СЭ на основе кремния, имеющего Еg равную 1,12 эв, будет иметь предельный теоретический КПД, равный 29,7 %. На рис. 5 показан процесс формирования фотоэлектронов в элементе с р-п переходом, где нижняя заштрихованная часть это валентная зона, а верхняя заштрихованная часть ? зона проводимости. При освещении такой структуры кванты излучений с энергиями h? ? Еg пролетят СЭ без поглощения и не внесут вклад в генерацию электрической мощности. Кванты излучений с энергией h? = Еg проникают в кристалл глубже и могут передать свою энергию валентному электрону, переходящему на дно зоны проводимости (переход 1), после чего он может свободно перемещаться по кристаллу и участвовать в генерации электрической мощности. Кванты излучений с энергиями h? ? Еg, проникают в кристалл в меньшую глубину и переводят валентные электроны на более высокие уровни зоны проводимости (переходы 2, 3, 4). Чем больше энергия кванта, тем выше от «дна» зоны проводимости окажется этот электрон. Он может находиться на этом уровне очень короткое время и, передав свою «лишнюю» энергию (?Ес) кристаллической решетке, окажется на «дне» зоны проводимости, после чего, может перемещаться по кристаллу и участвовать в генерации электрической мощности. Такие «горячие» носители заряда могут перейти в устойчивое состояние только в результате передачи части своей энергии решетке. Поэтому в СЭ часть энергии светового излучения преобразуется в электрическую энергию, а часть, связанная с генерацией горячих носителей, повышает температуру кристалла.
Уменьшение этих потерь возможно при каскадном соединении нескольких СЭ на основе материалов с разной шириной запрещенной зоны (рис. 6). Они позволяют, с одной стороны, расширить спектр поглощения в длинноволновую область за счет узкозонных материалов, с другой стороны уменьшить потери, связанные с генерацией «горячих» носителей заряда. Уменьшение этих потерь происходит за счет «разделения» (образно) спектра излучения Солнца на «полосы» и преобразования энергии квантов, из каждой этих полос СЭ с соответствующей Еg. Чем больше число каскадов, тем меньше ширина «полосы» и разница между энергией кванта из «полосы» и Еg соответствующего элемента каскада. При этом снижаются потери мощности из-за «термализации» «горячих» носителей заряда. Однако каскадные СЭ не решают проблему с потерями, связанными с генерацией «горячих» носителей заряда. Кроме того, создание многокаскадной структуры СЭ сопряжено как с материаловедческими, так и технологическими проблемами.
Рис.5
Рис.6
Поэтому разработаны структуры элементов с одним р-п переходом, эффективность которых может оказаться выше, чем у стандартных однопереходных СЭ. К таким элементам можно отнести: 1) элементы с промежуточной зоной в запрещенной зоне (intermediate band), 2) элементы с ударной ионизацией, и 3) элементы с горячими носителями тока.
В ходе исследований возможности создания элементов с промежуточной зоны. Киверс и Грин в 1994 году пересмотрели теорию Шокли-Рида-Холла с учетом фотогенерации с примесного центра и поглощением кванта излучения и, применив её к крем-нию, легированному In, который является глубоким центром, предсказали возможность увеличения эффективности в абсолютном значении на 1 - 2 %. Непременным условием для промежуточных состояний является то, чтобы они вели себя как центры излучения при рекомбинации носителей (рис. 7).
В качестве промежуточных состояний в запрещенной зоне в базе могут использоваться квантовые точки (рис. 8).
В основе концепции элементов с множественной генерацией лежит рассмотрение возможности поглощения фотона с энергией превышающей Eg в два, три раза и генерации двух или трех электронно-дырочных пар (рис. 9). Если в обычных элементах в этом случае часть энергии, превышающей Eg, теряется на нагрев кристалла, в элементах с ударной ионизацией имеется возможность получения больше одной электронно-дырочной пары при поглощении одного фотона. Это происходит следующим образом: поглощаемый высокоэнергетический квант создает высокоэнергетический носитель (например, электрон), который затем, релаксируя ко дну зоны проводимости, может свою энергию передать электрону в валентной зоне. Если она будет больше чем Eg, то возникнет вероятность генерации еще одного электрона в зону проводимости (рис. 9). Однако в реальных кристаллах такой переход маловероятен из-за многочисленных соударений горячего электрона с примесями и другими нарушениями кристаллической решетки. В результате первоначальная энергия будет растрачиваться на нагрев кристалла и остаточной энергии первичного электрона будет не достаточно для перевода валентного электрона в зону проводимости. Число соударений горячего носителя по пути ко дну зоны проводимости определяет его длину свободного пробега в данном кристалле. Чем совершеннее кристалл и чем меньше в ней примесей, тем больше будет длина свободного пробега и больше вероятность сохранения первоначальной энергии для генерации еще одного валентного электрона в зону проводимости.
Рис.7
Рис. 8
Рис. 9
Для уменьшения потерь при соударениях и сохранении первоначальной энергии возбужденного электрона предлагается использовать варизонный кристалл, электрическое поле которого будет ускорять носитель заряда по мере его движения из широкозонной части в узкозонную часть кристалла (рис. 10). При электрических полях кристаллической решетки, достаточных для компенсации потерь в соударениях, появляется возможность удвоения квантовой эффективности для фотонов с энергией 2Eg и более.
Рис. 10
Рис. 11
Рис. 12
Рис. 13
Рис.14
Рис. 15
Предлагается также создание гетеропереходного элемента на основе n GaP - p Si (рис. 11), особенностью которого является наличие разрывов зон при контакте этих материалов. При этом ширина разрыва валентной зоны равна 1,45 эв, что больше чем ширина запрещенной зоны кремния. При резком р-п переходе создаются условия, при котором возбужденная в GaP «дырка», падая с энергетической высоты равной 1,45 эв, может передать эту энергию валентному электрону в кремнии, которому для перехода в зону проводимости достаточно энергии 1,12 эв, т.е. Eg Si. Таким образом, возможно удвоение квантовой эффективности для фотонов, энергия которых > Eg фосфида галлия (рис. 12).
В элементах с горячими носителями тока высокоэнергетический фотон генерирует электронно-дырочную пару с большой энергией, которую затем надо разделить для получения тока.
Для такого элемента нужны специальные контакты, позволяющие изоэнтропически охладить горячие носители и сохранить их электрохимический потенциал (рис. 13). Для создания таких контактов в 2003 году было предложено использовать туннельно резонансные структуры с квантовыми точками. Резонансное туннелирование через слой с квантовыми точками ? это транспортировка потока тока через узкую щель энергии, позволяющая сохранить энергию частицы (рис. 14). Зависимость эффективности преобразования солнечного элемента с горячими носителями тока от ширины запрещенной зоны материала показывает, что максимум эффективности сдвигается в сторону меньших значений Еg (рис. 15), так как с уменьшением Еg растет и доля квантов, поглощаемых этим материалом. Теоретические расчеты показывают, что КПД СЭ, основанных на экстракции горячих носителей, тока больше эффективности шестикаскадного преобразователя. Таким образом, используя новые физические явления в структурах СЭ, можно достичь достаточно высоких значений КПД преобразования солнечного излучения. Другим фактором привлекательности таких структур является относительная простота технологических приемов по сравнению с технологией формирования 5 или 6 каскадных элементов.
Размещено на Allbest.ru
...Подобные документы
Значение и использование монокристаллического кремния при производстве солнечных элементов повышенной эффективности. Природа и механизм возникновения дефектов для пар железо-бор в составе элементов при различных условиях эксплуатации и освещения.
реферат [104,0 K], добавлен 23.10.2012Плотность обратного тока диода Шотки на основе структуры "алюминий-кремний" при обратном смещении. Концентрация электронов в кремнии при заданной температуре. Потенциальный барьер за счет эффекта Шотки, его высота. Ток насыщения и площадь контакта.
контрольная работа [286,0 K], добавлен 15.04.2014Дифракция быстрых электронов на отражение как метод анализа структуры поверхности пленок в процессе молекулярно-лучевой эпитаксии. Анализ температурной зависимости толщины пленки кремния и германия на слабо разориентированой поверхности кремния.
курсовая работа [1,0 M], добавлен 07.06.2011Исследование направлений использования метода ионного легирования углеродных наноструктур. Характеристика ионной имплантации и её применения в технологии СБИС. Расчет профиля распределения примеси при ионной имплантации бора различных энергий в кремний.
реферат [556,8 K], добавлен 18.05.2011Полупроводниковый кремний как один из важнейших полупроводниковых материалов, используемых в настоящее время. Ширина энергетического зазора между дном зоны проводимости и потолком валентной зоны, в котором отсутствуют разрешённые состояния для электрона.
контрольная работа [417,4 K], добавлен 25.11.2012Понятие фазового перехода и твердой растворимости. Типы фазовых диаграмм. Системы, их значение в микроэлектронике. Фазовые диаграммы, в которых в качестве одной из компонент фигурирует именно кремний. Двухфазная диаграмма и процесс отвердевания.
реферат [1,1 M], добавлен 23.06.2010Фотоэлектрические и термодинамические солнечные электростанции, их типы. Технологии получения электричества из солнечного излучения; экология. Физический принцип работы солнечных батарей, термальная энергетика. Фотоэлементы промышленного назначения.
курсовая работа [810,3 K], добавлен 04.11.2011Сущность технологических приемов химического травления и контроля качества поверхности пластин кремния. Особенности термического вакуумного напыления алюминия на полупроводниковую подложку. Фотолитография в производстве полупроводниковых приборов.
методичка [588,6 K], добавлен 13.06.2013Механизм анодного окисления кремния. Влияние толщины пленки, сформированной методом ионной имплантации и водородного переноса, на ее электрофизические свойства. Электрофизические свойства структур "кремний на изоляторе" в условиях анодного окисления.
дипломная работа [327,8 K], добавлен 29.09.2013Определение потери электроэнергии в двух трансформаторах подстанции, работающих круглый год. Расчет параметров трансформатора. Определение экономического сечения сталеалюминевых проводов двухцепной воздушной линии электропередачи напряжением 110 кВ.
контрольная работа [205,7 K], добавлен 19.04.2015Особенности частичного насыщения поверхностных атомов кремния метильными группами и методов моделирования кластера минимального размера. Иммобилизация метильных групп на поверхность димеризованного гидрогенизированного кластера в различных соотношениях.
доклад [1,1 M], добавлен 26.01.2011Рабочие характеристики электродвигателя. Расчет коллекторного двигателя постоянного тока малой мощности. Обмотка якоря, размеры зубцов, пазов и проводов. Магнитная система машины. Потери и коэффициент полезного действия. Индукция в станине, её значение.
курсовая работа [597,6 K], добавлен 25.01.2013Кристаллическая структура и полупроводниковые свойства карбида кремния и нитрида алюминия. Люминесцентные свойства SiC и твердых растворов (SiC)1-x(AlN)x. Технологическая установка для выращивания растворов. Электронный микроскоп-микроанализатор ЭММА-2.
дипломная работа [175,9 K], добавлен 09.09.2012Анализ противоречий в механизмах протекания электрического тока в проводниках. Обзор изменения состава и структуры поверхности многокомпонентных систем, механизма диффузии и адсорбции. Исследование поверхности электродов кислотных аккумуляторных батарей.
контрольная работа [25,0 K], добавлен 14.11.2011Виды потерь мощности в асинхронной машине (АСМ), особенности их определения. Электрические (переменные) и магнитные (постоянные) потери. Расчет потерь в меди статора и ротора, в стали статора, механические потери. Регулирование частоты вращения АСМ.
презентация [1,7 M], добавлен 21.10.2013Описание элементов электрической цепи синусоидального тока. Характеристики резистивного элемента. Работа индуктивного элемента. График изменения мощности со временем. Описание емкостного элемента. Анализ графика и выражения для мгновенной мощности.
презентация [449,2 K], добавлен 25.07.2013Изучение свойств карбида кремния. Понятие омического контакта. Разработка и оптимизация технологии воспроизводимого получения омических контактов к карбиду кремния n- и р-типа проводимости на основе выявления факторов, влияющих на его формирование.
курсовая работа [165,7 K], добавлен 10.05.2014График нагрузки по продолжительности. Определение активного сопротивления линии передачи напряжением 35 кВ для провода АС-50. Нахождение потерь реактивной мощности. Расчет линии передач. Экономическая плотность тока и сечения для левой и правой сети.
контрольная работа [83,9 K], добавлен 16.01.2011Предварительный выбор и расчет двигателя постоянного тока. Определение его среднеквадратичного момента и предварительной мощности. Математическая модель двигателя независимого возбуждения. Потери при пуске и торможении. Определение средневзвешенного КПД.
курсовая работа [1,5 M], добавлен 18.06.2015Расчет усилий, моментов, действующих в системе, мощности двигателя скипового подъемника. Полезное усилие в тросе при спуске порожнего скипа. Выбор силовых полупроводниковых элементов. Действующее значение тока двигателя. Потери мощности в цепи якоря.
курсовая работа [3,1 M], добавлен 25.06.2013