Свойства полупроводников, расчет характеристик р-п – перехода

Расчет температурной зависимости концентрации равновесных носителей заряда и уровня Ферми в собственном полупроводнике. Особенности нахождения высоты потенциального барьера равновесного р-n перехода. Вычисление коэффициента диффузии для электронов, дырок.

Рубрика Коммуникации, связь, цифровые приборы и радиоэлектроника
Вид курсовая работа
Язык русский
Дата добавления 13.11.2013
Размер файла 312,3 K

Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже

Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.

Размещено на http://www.allbest.ru

25

Министерство образования и науки РФ

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования

«Забайкальский государственный университет»

(ЗабГУ)

Факультет переподготовки и повышения квалификации

Кафедра Физики и техники оптической связи

Курсовая работа

По дисциплине: «Физические основы электроники»

Тема: «Свойства полупроводников, расчет характеристик р-п - перехода»

Вариант №9

Выполнил:

студент гр.ТКО-12

Козлов Н.Н.

Чита

2013

Содержание

1. Исходные данные

2. Расчет температурной зависимости концентрации равновесных носителей заряда в собственном полупроводнике

3. Расчет температурной зависимости уровня Ферми в собственном полупроводнике

4. Расчет температуры ионизации дононой примеси Тs и ионизации основного вещества Ti в полупроводнике

5. Расчет температуры ионизации Тs и Ti в акцепторном полупроводнике методом последовательных приближений

6. Расчет температурной зависимости положения уровня Ферми в донорном полупроводнике

7. Расчет критической концентрации вырождения донорной примеси

8. Расчет равновесной концентрации основных и неосновных носителей тока

9. Нахождение высоты потенциального барьера равновесного р-n перехода

10. Нахождение положение уровней Ферми в р-n переходе

11. Нахождение толщины р-n перехода в равновесном состоянии

12. Определение толщины пространственного заряда в р и n областях

13. Построение графика 5 «Энергетическая диаграмма p-n-перехода в равновесном состоянии»

14. Нахождение максимальной напряженности электрического поля в равновесном p-n-переходе

15. Нахождение падение потенциала в p-n-областях пространственного заряда p-n- перехода……

16. Построение график 6 «Зависимость потенциала в p-n-областях от расстояния»

17. Вычисление барьерной емкости p-n-перехода

18. Вычисление коэффициента диффузии для электронов и дырок

19. Вычислить электропроводность и удельное сопротивление собственного п/п

20. Определение величины плотности обратного тока p-n-перехода

21. Построение обратной ветви ВАХ p-n-перехода

22. Построить прямую ветвь ВАХ p-n-перехода

23. Вычислить отношение jпр/jобр

Вывод

Список литературы

1. Исходные данные

1.1

5*1014

0,01

1015

0,05

0,5

0,3

11

5500

2000

50

Физические и математические постоянные:

1. Постоянная Планка

2. Элементарный заряд

3. Масса покоя электрона

4. Постоянная Больцмана

5. Число пи

6. Число е

7. Электрическая постоянная

2. Рассчитать температурную зависимость концентрации равновесных носителей заряда в собственном полупроводнике

Исходные формулы:

а) Получение расчетной формулы

Пример:

б) Результаты расчетов представил в таблице 1.

Таблица 1. Концентрация равновесных носителей заряда в собственном полупроводнике.

T

1/T

KT

n0

lnn0

75

0,013333333

0,006463

0,003973436

-5,528124115

100

0,01

0,008617

21789,62053

9,989189013

120

0,008333333

0,010341

54057905,69

17,80556636

150

0,006666667

0,012926

1,42581E+11

25,68317669

200

0,005

0,017235

4,14293E+14

33,65759481

300

0,003333333

0,025852

1,43642E+18

41,80868748

400

0,0025

0,03447

9,60747E+19

46,0116581

500

0,002

0,043087

1,2904E+21

48,60924193

в) Построил график 1 зависимости равновесной конфигурации носителей тока от температуры в координатах .

График 1

г) Проверить правильность построения графика, выполнив обратную задачу: используя значение tg б, найти ширину запрещенной зоны полупроводника ?Е, сравнить с исходным значением ?Е. Найти погрешность д(?Е). заряд полупроводник электрон температурный

3. Рассчитать температурную зависимость уровня Ферми в собственном полупроводнике

Расчетная формула:

а) результаты расчетов представил в таблице 2

Таблица 2. Зависимость Ef(T) в собственном полупроводнике

T,K

KT,эВ

Ef,эВ

Ef/Ef0*100%

100

0,008617375

0,397100366

101,8206066

200

0,01723475

0,404200731

103,6412132

300

0,025852126

0,411301097

105,4618198

400

0,034469501

0,418401463

107,2824264

500

0,043086876

0,425501829

109,103033

б) Построил график 2 «Зависимость Ef(T) в собственном полупроводнике

График 2

4. Рассчитать температуры ионизации донорной примеси Тs и ионизации основного вещества Тi в полупроводнике n тока методом последовательных приближений

В качестве начальных температур использовать значения Ti =400 К, Ts=50 К

Расчетные формулы:

Таблица 3.

N приближ.

1

2

3

4

5

6

Ti, K

400

986,0672473

761,51462

814,6480626

800,077865

803,9251818

Nc*10E+25,

0,345561057

1,337502517

0,907720567

1,004361024

0,977536968

0,984596428

Nv*10E+25

1,795587925

6,949866942

4,716654422

5,218812967

5,079431084

5,116113117

10

11

803,1185939

803,1134442

0,983115014

5,108415461

Таблица 4.

N приближ

1

2

3

4

5

6

7

8

9

Ts,K

50,000

346,476

109,388

184,635

140,692

160,530

150,249

155,238

152,735

Nc*10E+23

1,527

27,858

4,942

10,837

7,208

8,786

7,955

8,355

8,153

10

11

12

13

153,970

153,355

153,660

153,509

8,253

8,203

8,228

5. Рассчитать температуру ионизации Тs и Тi в акцепторном полупроводнике методом последовательных приближений

Расчетные формулы:

Таблица 5.

N приближ.

1

2

3

4

5

6

7

8

9

Ti, K

400

856,68

704,36

738,10

729,75

731,76

731,27

731,39

731,36

Nc*10E+25,

0,3455

1,083100

0,8074

0,8661

0,8515

0,8550

0,8541

0,8544

Nv*10E+25

1,7955

5,627955

4,1958

4,5008

4,4246

4,4429

4,4385

4,4396

Таблица 6.

N приближ

1

2

3

4

5

6

7

8

9

Ts,K

50

110,34

83,43

91,29

88,60

89,48

89,19

89,28

89,25

Nv*10E+23

7,9354

26,0163

17,104

19,579

18,719

18,998

18,9

18,93

6. Рассчитать температурную зависимость положения уровня Ферми Ef(T) в донорном полупроводнике

а) для низкотемпературной области использовать формулу:

Таблица 7.

T,K

5

10

50

60

80

153,5

KT,эВ

0,000430869

0,000861738

0,004308688

0,005170425

0,0068939

0,013227671

Nc,м-3

4,82936E+21

1,36595E+22

1,52718E+23

2,00753E+23

3,09079E+23

8,21481E+23

Ef,эВ

-0,01954453

-0,01953705

-0,02288620

-0,02417045

-0,02704804

-0,03998852

График 3 Зависимость Ef(T) для полупроводника n-типа в области низких температур.

б) для низкотемпературной области найти положение максимума зависимости Ef(T), т.е. вычислить и

в) для области средних температур использовать формулу:

Таблица 8.

T,K

100

150

200

250

300

350

400

KT,эВ

0,00861737

0,012926063

0,01723475

0,021543438

0,02585212

0,03016081

0,034469501

Nc,м-3

4,3195E+23

7,93545E+23

1,22174E+24

1,70744E+24

2,2444E+24

2,8283E+24

3,4556E+24

Ef,эВ

-0,01453136

-0,02965864

-0,04698205

-0,06593848

-0,0861962

-0,10753629

-0,12980275

450

500

550

600

650

700

750

803,1

0,038778188

0,043086876

0,047395564

0,0517042

0,056013

0,060322

0,06463

0,06920614

4,12338E+24

4,82936E+24

5,57159E+24

6,348E+24

7,16E+24

8E+24

8,87E+24

9,83081E+24

-0,15287922

-0,17667528

-0,20111873

-0,2261505

-0,25172

-0,27779

-0,30432

-0,332968031

г) в области высоких температур использовать формулу:

Таблица 9.

T,К

400

450

500

550

KT,эВ

0,034469501

0,038778188

0,043086876

0,047395564

Ef,эВ

-0,361598537

-0,358048354

-0,354498171

-0,350947989

д) построить график 4 «Температурная зависимость Ef для донорной примеси по полученным точкам ».

График 4.

7. Рассчитать критическую концентрацию вырождения донорной примеси

. В и

8. Рассчитать равновесную концентрацию основных и неосновных носителей тока в p-n и n - областях p-n перехода при температуре Т=300К

Полагая , что примесь полностью ионизирована, считать и равным концентрации соответствующей примеси. Концентрация неосновных носителей найти из закона действующих масс в и перевести в .

9. Найти высоту потенциального барьера равновесного p-n-перехода и контактную разность потенциалов

10. Найти положение уровней Ферми в p-n-перехода и n-областях относительно потолка зоны проводимости и дна валентной зоны соответственно (Т=300К)

а)

б)

в) определить высоту потенциального барьера p-n-перехода (проверка правильности п.8)

11. Найти толщину p-n-перехода в равновесном состоянии (Т=300К)

12. Определить толщину пространственного заряда в p-n-областях

13. Построить в масштабе график 5 «Энергетическая диаграмма p-n-перехода в равновесном состоянии»

График 5.

14. Найти максимальную напряженность электрического поля в равновесном p-n-переходе

Построить график 6 «Зависимость напряженности электростатического поля от расстояния в p-n-переходе»

График 6.

15. Найти падение потенциала в p-n-областях пространственного заряда p-n-перехода

16. Построить график 6 «Зависимость потенциала в p-n-областях от расстояния»

Задать 5 значений Хр через равные интервалы и вычислить 5 значений .

Задать 5 значений Хn через равные интервалы и вычислить 5 значений .

Таблица 9.

 

1

2

3

4

5

Xp*1E-7

0,245902211

0,491804423

0,737706634

0,983608846

1,229511057

цp

0,014588944

0,058355776

0,131300495

0,233423102

0,364723597

Xn*1E-7

-0,122951106

-0,245902211

-0,368853317

-0,491804423

-0,614755529

цn, в

-0,007294472

-0,029177888

-0,065650248

-0,116711551

-0,182361799

График 7.

17. Вычислить барьерную емкость p-n-перехода расчете на S=1 смІ для трех случаев

а) равновесное состояние p-n-перехода

б) при обратном смещении V=1 В

в) при прямом смещении V=0.8 Vk

Вывод: При обратном смещении барьерная емкость уменьшается . при прямом смещении барьерная емкость увеличивается.

18. Вычислить коэффициент диффузии для электронов и дырок ( в смІ/с) и диффузионную длину для электронов и дырок (в см) при Т=300 К

19. Вычислить электропроводность и удельное сопротивление собственного полупроводника, полупроводника np-типа при Т=300 К

Выводы: а) проводимостью неосновных носителей в легированных полупроводника можно пренебречь по сравнению с прводимостью, обусловленной основными носителями.

б) легированный п/п обладает большей электропроводностью.

В 10 раз.

20. Определить величину плотности обратного тока p-n-перехода при Т=300 К вА/смІ

21. Построить обратную ветвь ВАХ p-n-перехода, Т=300 К

Результаты расчетов привести в таблице 10.

По данным таблицы 10 построить график 7 «Обратная ветвь ВАХ p-n-перехода».

Обратная ветвь ВАХ p-n-перехода, Т=300 К.

Обратная ветвь ВАХ p-n-перехода

Таблица 10.

N

1

2

3

4

5

6

qV

4,14195E-22

1,24259E-21

2,07098E-21

4,14195E-21

6,21293E-21

8,2839E-21

V

-0,002585213

-0,007755638

-0,012926063

-0,025852126

-0,038778188

-0,051704251

j*10, А/смІ

-4,15542E-07

-1,13176E-06

-1,71814E-06

-2,76025E-06

-3,39232E-06

-3,77569E-06

7

8

9

10

11

1,24259E-20

1,65678E-20

2,07098E-20

2,48517E-20

8,2839E-20

-0,077556377

-0,103408502

-0,129260628

-0,155112753

-0,51704251

-4,14925E-06

-4,28667E-06

-4,33723E-06

-4,35583E-06

-4,3667E-06

График 8.

22. Построить прямую ветвь ВАХ p-n-перехода, Т=300 К

Результаты расчетов привести в таблице 11.

Прямая ветвь ВАХ p-n-перехода, Т=300 К.

Таблица 11.

N

1

2

3

4

5

6

7

qV

4,14195E-21

8,2839E-21

1,24259E-20

1,65678E-20

1,86388E-20

2,07098E-20

8,2839E-20

V

0,025852126

0,051704251

0,077556377

0,103408502

0,116334565

0,129260628

0,517042511

j, А/смІ

7,50313E-09

2,78987E-08

8,33397E-08

2,34044E-07

3,88706E-07

6,437E-07

2,118519275

График 9.

23. Вычислить отношение jпр/jобр при и при . Сформулировать вывод

Вывод

В данной курсовой работе мы изучили свойства полупроводников и характеристики р-п перехода. В результате сделан вывод, что р-п переход обладает односторонней проводимостью и может использоваться в качестве выпрямительного устройства. Коэффициент выпрямления зависит от подаваемого на переход напряжения, чем оно выше, тем больше выпрямление.

Размещено на Allbest.ru

...

Подобные документы

  • Температурная зависимость концентрации равновесных носителей заряда в полупроводнике. Температуры ионизации донорной примеси и основного вещества в полупроводнике тока методом последовательных приближений. Электропроводность и удельное сопротивление.

    курсовая работа [271,8 K], добавлен 26.11.2009

  • Контакт полупроводника с полупроводником. Понятие, структура и методы создания p-n-переходов. Особенности поведения электрона с учетом спина в электрическом поле. Распределение примеси и носителей заряда в полупроводнике. Время диэлектрической релаксации.

    курсовая работа [1,4 M], добавлен 03.12.2010

  • Полупроводники и их физические свойства. Генерация и рекомбинация свободных носителей заряда. Влияние донорных и акцепторных примесей. Понятие р-п -перехода и факторы, влияющие на его свойства. Полупроводниковые диоды и биполярные транзисторы, их виды.

    контрольная работа [1,2 M], добавлен 19.03.2011

  • Структура полупроводниковых материалов. Энергетические уровни и зоны. Электро- и примесная проводимость полупроводников. Виды движения носителей. Свойства электронно-дырочного перехода. Электропроводимость полупроводников в сильных электрических полях.

    реферат [211,5 K], добавлен 29.06.2015

  • Свойства полупроводниковых материалов, применяемых для производства транзисторов и диодов. Понятие электронно-дырочного перехода (n-p-перехода), определение его вольтамперной характеристики. Расчет зависимости плотности тока насыщения от температуры.

    курсовая работа [612,5 K], добавлен 12.12.2011

  • Классификация, температурные зависимости концентрации, подвижностей носителей заряда собственных и примесных полупроводников. Общая характеристика и основные сведения о кристаллическом строении полупроводниковых материалов Si и Ge, методика выращивания.

    курсовая работа [1,5 M], добавлен 08.05.2009

  • Физико-химические основы процессов микроэлектроники. Распределение примесей после зонной плавки. Расчет распределения примеси в полупроводнике после диффузионного отжига при различных условиях диффузии. Нахождение положения электронно-дырочного перехода.

    курсовая работа [839,1 K], добавлен 30.10.2011

  • Изучение температурной зависимости подвижности и проводимости носителей заряда в полупроводниках. Основные электрофизические свойства кремния и германия, мелкие акцепторные и донорные уровни. Спектральный диапазон оптической прозрачности чистого кремния.

    курсовая работа [266,1 K], добавлен 22.12.2014

  • Закономерности протекания тока в p–n переходе полупроводников. Построение вольтамперных характеристик стабилитрона, определение тока насыщения диода и напряжения пробоя (напряжения стабилизации). Расчет концентрации основных носителей в базе диода.

    лабораторная работа [171,4 K], добавлен 27.07.2013

  • Изменение концентрации носителей и проводимости в приповерхностном слое полупроводника под действием электрического поля. Эффект поля в собственном и примесном полупроводниках. Механизмы рекомбинации носителей. Законы движения носителей в полупроводниках.

    презентация [206,2 K], добавлен 27.11.2015

  • Составление измерительных схем для снятия характеристик опто-электронных приборов, содержащих p-n-переходы; регистрация напряжений и токов. Значения параметров цепи, получение ВАХ p-n-перехода, определение параметров перехода, моделирование работы схемы.

    лабораторная работа [459,4 K], добавлен 23.12.2011

  • Понятие и общая характеристика приборов - излучателей или приемников электромагнитных волн. Описание детекторных радиоприемников, принципы работы диода и триода. Устройство транзистора, свойства полупроводников, особенности возникновения p-n перехода.

    реферат [85,4 K], добавлен 17.03.2011

  • Диоды на основе электронно-дырочного перехода. Режимы работы диода. Технология изготовления электронно-дырочного перехода. Анализ диффузионных процессов. Расчет максимальной рассеиваемой мощности корпуса диода. Тепловое сопротивление корпуса диода.

    курсовая работа [915,0 K], добавлен 14.01.2017

  • Расчет коэффициента усиления САУ и свойства внешних статических характеристик. Построение частотных характеристик САУ и характеристических корней. Моделирование переходных характеристик и проверка САУ на устойчивость. Синтез корректирующего устройства.

    курсовая работа [2,3 M], добавлен 08.04.2010

  • Расчет характеристик направленности и коэффициента осевой концентрации антенны. Выбор колебательной системы и активного материала. Расчет электроакустических параметров и чувствительности. Технология сборки и методики измерения параметров антенны.

    курсовая работа [153,3 K], добавлен 15.08.2010

  • Расчет и построение зависимости поля и передающей антенны: в свободном пространстве; на трассе от усреднённого угла наблюдения, длины, неровностей, непрозрачных препятствий, влажности. Определение ЭДС на входе приёмной антенны в зависимости от ее высоты.

    курсовая работа [226,2 K], добавлен 23.09.2011

  • Расчет контактной разности потенциалов для р-n перехода. Вычисление сопротивления полупроводникового диода постоянному току. Балластное сопротивление и изменение напряжения источника питания. Температурный коэффициент напряжения стабилизации стабилитрона.

    практическая работа [25,9 K], добавлен 07.03.2013

  • Пористая матрица арсенида галлия и ее структурные свойства. Формирование низкоразмерной среды в арсениде галлия. Определение кристаллографической ориентации подложек. Определение концентрации носителей заряда. Оптическая и электронная микроскопия.

    дипломная работа [2,9 M], добавлен 02.06.2011

  • Расчет оконечного, предоконечного, предварительного и входного каскадов, температурной стабилизации усилителя мощности; частотных искажений конденсаторов. Определение коэффициента усиления охлаждения транзисторов и коэффициента гармоник устройства.

    курсовая работа [4,2 M], добавлен 09.11.2014

  • Проектирование усилительных устройств на транзисторах. Расчет коэффициента усиления, амплитудных, фазочастотных и переходных характеристик, коэффициента нелинейных искажений уровня помех чувствительности и устойчивости, входного и выходного сопротивления.

    курсовая работа [4,0 M], добавлен 07.01.2015

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу.