Газочувствительность полупроводниковых оксидов металлов как результат химических превращений и химических реакций на каталитически активных поверхностях
Ключевые задачи по проблемам хемосорбции молекул кислорода и воды на поверхности полупроводниковых оксидов металлов (ПОМ), их каталитической активности. Механизмы взаимодействия газов с ПОМ. Проблемы сенсорной диагностики, которые требуют решения.
Рубрика | Физика и энергетика |
Вид | автореферат |
Язык | русский |
Дата добавления | 02.03.2018 |
Размер файла | 4,3 M |
Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже
Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.
Рис.6.2 Быстродействие исследованных структур ПОМ при спаде концентрации СО в воздухе в зависимости от температуры.
В качестве исходных газовых смесей в исследованиях с окисью углерода, метаном, водородом в области высоких концентраций использовались поверочные газовые смеси (ПГС), а в области низких концентраций и микроконцентраций смеси воздуха с Н2, СН4, NH3, C6H14, C2H5OH и H2S, которые готовились на лабораторной ГСУ.
По результатам исследований показано, что динамические параметры ф0.9^ и ф0.9v ПОМ имеют резко спадающий характер с ростом температуры с достижением уровня ? 1 сек уже при температурах 450 - 5000С и не зависят от концентрации газов (см. рис.6.1 и 6.2). Такая стабилизация параметров ф0.9^ и ф0.9v объясняется тем, что наша аппаратура не позволяла измерять значения параметров ф0.9 меньше 1 сек. Реальные значения параметров ф0.9 при высоких температурах безусловно должны быть ниже 1 сек, поскольку скорость реакций с температурой только возрастает и, следовательно, времена реакции должны снижаться. Полученные нами численные значения параметров ф0.9^ и ф0.9v во много раз, а иногда на порядки, ниже данных, приводящихся в литературных источниках. Исследования по быстродействию для паров воды в воздухе выполнены впервые.
Измеренные величины постоянной времени при нарастании концентрации ф0.9^ характеризуют скорость химических реакций газов на поверхности ПОМ и их каталитические свойства, а ф0.9v - степень регенерируемости катализатора.
Каталитическая активность характеризуется скоростью химических реакций, которая определяется числом молекул конкретного вещества, реагирующих в единицу времени в единице объема. Используя полученные данные для ф0.9^ и концентрации молекул газа легко определить, что скорость реакции, например, СН4, с поверхностью ПОМ при указанных условиях будет не меньше ? 5.4•1017 см-3•сек-1 ? 1.9•10-2 моль•сек-1 с тенденцией повышения с ростом температуры.
Глава 7. Стабильность и воспроизводимость показаний ПОМ.
7.1 Экспериментальные данные.
В данной Главе (в диссертации Глава 11) представлен экспериментальный материал, полученный в процессе 129 - суточных испытаний шести структур ПОМ с газочувствительными слоями из чистой SnO2 и SnO2 с пятью каталитическими добавками: 3% Pd, 3% La2O3, 1% Sb2O5 + 3% La2O3, 1% Pt + 3% Pd и 3% Pd c каталитическим слоем из Al2O3 на длительную стабильность и воспроизводимость показаний в газовых смесях воздуха с 16 ppm СО и 15000 ppm СН4. Испытания проводились в режиме непрерывной продувки измерительной камеры чистым воздухом и газовыми смесями с расходом 1 см3/сек при двух температурах нагрева каждой структуры при постоянной влажности газовой среды 55% RH. В качестве исходных газовых смесей использовались промышленные ПГС с концентрациями 98 ppm СО и 20600 ppm (2.06 % об) СН4. Длительности импульса концентраций СО и СН4 и времени продувки камеры чистым воздухом были приняты равными 1 часу. Результатом этих исследований были диаграммы импульсов сопротивления образцов ПОМ R (t, С). На рис.7.1 представлены диаграммы R (t,C) для структуры SnO2 + 3% La2O3, продемонстрировавшей наилучшую воспроизводимость показаний в газовых смесях воздуха с СО и СН4. Методика непосредственных измерений проиллюстрирована для той же структуры на рис.7.2 в увеличенном масштабе на 10 и 91 дни испытаний.
Из диаграммы на рис.7.1 видно, что в момент подачи питания на нагреватель наблюдается резкий рост сопротивления в чистом воздухе R0 от его значения при комнатной температуре R0Тк (при этом на газочувствительный слой подано 10 В.) до величины R0 max. Достигнув наибольшего значения, сопротивление структур ПОМ далее начинает снижаться или дрейфовать со спонтанными выбросами и спадами, но в целом, как мы ожидаем, по асимптотическому закону. Установлено, что сопротивление для большинства структур ПОМ в газовых смесях Rg снижается симбатно с сопротивлением в чистом воздухе. Показано, что усредненный за период с 10 по 91 день испытаний (рис.7.2) дрейф сопротивления R0 для исследованных структур находится в пределах - (0.2 - 0.7) % ·d-1, дрейф сопротивления в газовых смесях - в пределах (0.2 - 0.6) %·d-1 для СО и (0.1 - 0.5) %·d-1 для СН4, а дрейф чувствительности в среднем находится в пределах - (0.01 - 0.13) %·d-1 (для СО) и (0.2 - 0.5) %·d-1 (для СН4).
Непредсказуемость сопротивления в чистом воздухе R0 и, следовательно, чувствительности S, а также практическая невозможность измерить или даже проверить его величину во время эксплуатации приборов газового контроля позволяют сделать однозначный вывод, что чувствительность (отклик) является некорректным параметром для построения эмпирических концентрационных зависимостей сенсоров, изготовленных на основе ПОМ. Сопротивление же структур ПОМ в газовых смесях Rg, которое в отличие от чувствительности является непосредственно измеряемой величиной, меньше подвержено временным и "биографическим" факторам и может быть проконтролировано в процессе работы прибора. Тем самым очевидно, что сопротивление структур ПОМ является единственной мерой концентрации газовых примесей в воздухе. Поэтому для построения эмпирических концентрационных зависимостей ПОМ должны быть использованы опытные данные для сопротивления Rg (С) в координатах [R - C], [lgR - C], [lgR - lgC] и т.д., что и было сделано нами в Главе 5.
Определена воспроизводимость исследованных структур ПОМ, равная среднеквадратичному отклонению среднеарифметических величин сопротивления r = sd (Rma) /Rma. Для этого проведено усреднение значений Rg структур ПОМ для каждого газа в каждом цикле измерений в интервалах времени с нарастающим числом дней, начиная с последнего измерения в 99 день испытаний.
Рис.7.1 Диаграммы сопротивления R (t,C) структуры SnO2 + 3% La2O3 при температурах нагрева 450 и 5000С в процессе испытания образцов.
Рис.7.2 Диаграммы сопротивления R (t,C) структуры SnO2 + 3% La2O3 под воздействием импульсов концентрации СО и СН4 на 10 (слева) и 91 (справа) день испытаний
Показано, что воспроизводимость так же, как и само значение сопротивления Rma возрастает с удлинением интервала усреднения по мере приближения к началу испытаний. Определены временные интервалы, в которых воспроизводимость не превышает 5 %. Установлено, что по всем показателям для регистрации СО и СН4 наилучшей является структура SnO2 + 3% La2O3, нагретая до 5000С. Воспроизводимость показаний этой структуры при измерения концентрации обоих газов на уровне 16 ppm CO и 15000 ppm СН4 в воздухе, по крайней мере, с шестого дня испытаний не превышает 4.5 % для СО и 3 % для СН4, соответственно.
7.2 Интерпретация дрейфа сопротивления ПОМ.
Каждой температуре Т соответствует свое динамическое равновесие между поверхностью ПОМ и окружающим влажным воздухом, характеризуемое определенным количеством хемосорбированных ионов кислорода NOТ, количеством гидроксильных групп OH? в КГС NOH?Т и количеством вакансий кислорода NVoТ на поверхностных ионах Sn4+, суммарное количество которых определяется структурой кристаллитов газочувствительного слоя ПОМ:
NVoТ (Т,Ш) + NOТ (Т,Ш) + NOH?Т (Т,Ш) = NSn4+ (7.1)
Учитывая особенности барьерного механизма проводимости и сильную полярность молекул воды, можно предположить, что при комнатной температуре Тк во влажном воздухе поверхность ПОМ будет состоять в основном из гидроксильных групп и молекулярной воды, занимающих активные центры на ионах Sn4+
NН2ОТк (Ш) + NOH?Тк (Ш) = NSn4+, (7.2)
где NН2ОТк (Ш) - концентрация молекулярной воды. Как следствие, сопротивление ПОМ
при этом будет наименьшим. Это явление и наблюдается в действительности на диаграммах на рис.7.1 при t = 0 (R0Tк), когда питание нагревателей еще не включено.
При включении питания нагрев ПОМ до температур 400 - 5000С происходит мгновенно. Также мгновенно за времена 10-12 - 10-6 сек происходит адсорбция молекул атмосферного кислорода, часть из которых участвует в процессе рекомбинации гидроксильных групп с образованием хемосорбированного иона кислорода О2-, и десорбция образованных молекул воды.
ОН? + ОН? + 1/2•О2 + 2•е? > Н2О^ + 2•О2 - ne = - 2•е? (7.3)
Поскольку концентрация гидроксильных групп при комнатной температуре определенно выше их концентрации при температуре Тh (см. тенденции на рис.4.9), то и концентрация образованных в реакции (7.3) ионов О2 - будет выше равновесного значения. Реакция (7.3) приводит к быстрому обеднению зоны проводимости ПОМ и, как следствие, к резкому росту сопротивления R0 до значения R0max, которое оказывается значительно больше равновесного значения при температуре Тh. Это явление отчетливо наблюдается на упомянутых диаграммах R (t,C) на рис 7.1.
По мере нахождения структур ПОМ в нагретом состоянии состав КГС будет стремиться к своему равновесному состоянию, которое определяется температурой нагрева Тh и должно характеризоваться (при постоянной влажности воздуха) меньшим количеством ионов О2 - и гидроксильных групп ОН? на поверхностных ионах олова Sn4+ и, соответственно, большим количеством свободных вакансий кислорода на тех же ионах олова согласно уравнению (7.1). Процесс удаления хемосорбированных ионов О2 - и ОН? происходит, вероятнее всего, по сценарию рекомбинации одноименных ионов в молекулы газов с их последующей десорбцией:
2•О2 - > О2^ + 2•VO + 4•е? ne = + 4•е? (7.4)
2•ОН? > Н2О^ + 1/2•О2 ^ + 2•е? ne = + 2•е? (7.5)
Результатом указанных реакций является высвобождение электронов в зону проводимости ПОМ и, как следствие, понижение сопротивления ПОМ, что и наблюдается в действительности. Снижение сопротивления будет продолжаться до тех пор, пока не установится динамическое равновесие, соответствующее температуре Тh, между молекулами кислорода и воды и количеством хемосорбированных ионов О2 - и ОН? в КГС в соответствии с уравнением (7.1).
Таким образом, дрейф сопротивления ПОМ в чистом воздухе R0 при постоянной влажности, как в нашем случае, может быть объяснен простым перераспределением количества частиц на поверхности
NVoТ^ + NO2-Тv + NOH?Тv = NSn4+, (7.6)
где символ ^ означает увеличение количества частиц, символ v - уменьшение.
Глава 8. Интерпретация полученных результатов. Физико-химические характеристики исследованных ПОМ: полупроводников, катализаторов и сенсоров (Глава 12 диссертации).
8.1 Механизм взаимодействия газов с поверхностью ПОМ.
В данном разделе будут представлены наиболее вероятные, на наш взгляд, схемы химических превращений и химических реакций газов на каталитически активных поверхностях ПОМ. Кроме того, для каждого газа будут представлены также реакции регенерации или восстановления поверхности катализатора после удаления газов. При описании взаимодействия исследованных газов с "кислородно-гидроксильным" слоем ПОМ и реакций регенерации мы придерживались следующих постулатов:
· При контактах молекул газов с реакционноспособными ион-радикалами О2 - и гидроксильными группами ОН? "кислородно-гидроксильного" слоя (КГС) первым актом является диссоциация молекул газов. Реакции термической диссоциации газов были заимствованы из химической литературы;
· Продукты диссоциации молекул газов взаимодействуют с указанными ионами КГС с образованием новых гидроксильных групп, дополнительных вакансий кислорода VO* и газов, которые десорбируются с поверхности ПОМ (символ ^);
· Все реакции будут рассматриваться для температурной области 300 - 5000С во влажном воздухе, когда на поверхности ПОМ наряду с КГС присутствуют свободные вакансии кислорода VO;
· Баланс электронов, образующийся в результате реакций газов с КГС, так и реакций регенерации поверхности ПОМ, должен соответствовать реально наблюдаемому изменению (по знаку) проводимости ПОМ;
· Во всех представленных ниже схемах реакций газов с двухзарядным хемосорбированным ионом кислорода О2 - и гидроксильной группой ОНЇ баланс электронов относится к одной молекуле взаимодействующего газа.
Количество электронов, участвующих в реакциях каждого продукта диссоциации с ионами О2 - и ОН? разделяется на доли так, что его общее количество равно количеству электронов в реакциях взаимодействии того же продукта с ионом О2 - в сухом воздухе (см. раздел 4.3 Главы 4). Электроны, высвобожденные при взаимодействии с ионом О2-, выделены полужирным курсивом.
Вода (Н2О), влажный воздух. Диссоциация, хемосорбция.
Н2О > Н2 + 1/2·О2^ и Н2 > 2·Н (8.1)
2·Н + 2·О2 - > 2•ОНЇ + 2·е? ne = + 2·еЇ (8.2)
Регенерация, удаление гидроксилов, десорбция молекул Н2О
2•ОН? + Ѕ·О2 + 2•е? > Н2О^ + 2•О2 - ne = - 2•е? (8.3)
Итог: нулевой баланс электронов и восстановление КГС до состояния сухого воздуха.
Окись углерода (СО) СО - С + Ѕ·О2 ^ (8.4)
С + 2·О2 - > СО2^+ 2•VO* + 4·е? ne= + 4•е? (8.5)
Регенерация после удаления СО
О2 + 2•VO* + 4•е? > 2•О2 - ne = - 4•е? (8.6)
Итог: нулевой баланс электронов и восстановление КГС до состояния влажного воздуха.
Метан (СН4) СН4 > С + 2•Н2 > С + 4•Н (8.7)
С + 2·O2 - > СO2^+ 2·VO* + 4·e? ne = + 4•е? (8.8)
4•Н + 4•О2 - > 4•ОН? + 4•e? ne = + 4•e? (8.9)
4•Н + 4•ОН? > 4•Н2О^ + 4•VO* + 4•e? ne = + 4•e? (8.10)
Регенерация
О2 + 2·VO* + 4·e? > 2•О2 - ne = - 4•е? (8.11)
2•О2 + 4•VO* + 8•e? > 4•О2 - ne = - 8•e? (8.12)
4•ОН? + О2 + 4•е? > 2•Н2О^ + 4•О2 - ne = - 4•е? (8.13)
2•Н2О > 2•Н2 + О2^> 4·Н + О2^ (8.14)
4·Н + 4•О2 - > 4•ОН? + 4·е? ne = + 4·е? (8.15)
Итог: нулевой баланс электронов и восстановление КГС до состояния влажного воздуха.
Водород (Н2) Н2 > 2•Н (8.16)
2•Н + 2•О2 - > 2•ОН? + 2•e? ne = + 2•e? (8.17)
2•Н + 2•ОН? > 2•Н2О^+ 2•VO*+ 2•е? ne = + 2•e? (8.18)
Регенерация
2•ОН? +1/2•О2 + 2•e? > Н2О^ + 2•О2 - ne = - 2•e? (8.19)
О2 + 2•VO* + 4•е? > 2•О2 - ne = - 4•е? (8.20)
Н2О > Н2 + 1/2•О2^> 2·Н + 1/2•О2^ (8.21)
2·Н + 2•О2 - > 2•ОНЇ + 2·е? ne = + 2·е? (8.22)
Итог: нулевой баланс электронов и восстановление КГС до состояния влажного воздуха
Аммиак (NH3) NН3 - Ѕ·N2 ^+ 3/2·Н2 и 3/2·Н2 > 3•Н (8.23)
3•Н + 3•О2? > 3•ОН? + 3·e? ne = + 3·e? (8.24)
3•Н + 3•ОН? > 3•Н2О^+ 3•VO* + 3·e? ne = + 3·e? (8.25)
Регенерация:
3•ОН? + 3/4•О2 + 3·e? > 3/2•Н2О^ + 3•О2? ne = - 3·e? (8.26)
3/2•О2 + 3•VO* + 6·e? > 3·О2 - ne = - 6·e? (8.27)
3/2•Н2О > 3/2•Н2 + 3/2•О2^> 3·Н + 3/2•О2^ (8.28)
3·Н + 3•О2 - > 3•ОНЇ + 3·е? ne = + 3·е? (8.29)
Итог: нулевой баланс электронов и восстановление КГС до состояния влажного воздуха.
Окись азота (NO) (используются свободные вакансии кислорода VO)
NO > Ѕ·N2^ + Ѕ·О2 (8.30)
Ѕ·О2 + VO + 2·е? > О2 - ne = - 2•e? (8.31)
Ѕ·О2 + 2•ОН? + 2·е? > Н2О^ + 2•О2 - ne = - 2•e? (8.32)
Регенерация
О2 - > Ѕ·О2^+ VO + 2·е? ne = + 2•e? (8.33)
Н2О > Н2 + 1/2•О2^> 2·Н + 1/2•О2^ (8.34)
2·Н + 2•О2 - > 2•ОНЇ + 2·е? ne = + 2·е? (8.35)
Итог: нулевой баланс электронов и восстановление КГС до состояния влажного воздуха.
Как было отмечено в разделе 4.3 Главы 4, при температурах выше 300-4000С с повышением влажности воздуха в КГС начинают превалировать гидроксильные группы ОН? на фоне уменьшения концентрации хемосорбированных ионов кислорода О2-. Следствием этого должно быть снижение числа актов продуктов диссоциации газов с ионами О2 - и, напротив, повышение числа актов с группами ОН?. Поэтому из-за снижения количества электронов, высвободившихся в результате реакций (8.7), (8.8 - 8.9), проводимость ПОМ и, соответственно, их чувствительность к СО и СН4 должна уменьшиться, что и наблюдается в действительности. В случае NH3, исходя из реакций (8.24) и (8.25), снижения чувствительности, так же, как в случае с Н2, не должно наблюдаться. Однако, в действительности, как показано в диссертации, влажность воздуха оказывает заметное влияние на чувствительность ПОМ к NH3. Тому причиной является барьерный механизм проводимости, который особенно существенен для полярных молекул, к которым относится NH3 и Н2О (см. раздел 4.2 Главы 4). Проводимость ПОМ при взаимодействии с NO во влажном воздухе согласно реакциям (8.31) и (8.32) должна понизиться из-за образования дополнительных ионов кислорода О2-, а чувствительность S*, напротив, возрасти. Эту закономерность мы и наблюдаем в действительности для чистой SnO2. Для чистой же WO3 мы имеем обратную картину - чувствительность с повышением влажности понижается.
8.2 Каталитическая активность исследованных ПОМ.
Полученные экспериментальные данные позволяют сделать заключение о типе реакции газов с поверхностью ПОМ. Хорошо известно, что скорость реакций всегда возрастает с температурой, т.е. dg/dT > 0. Подтверждением этому являются полученные нами результаты по быстродействию ПОМ. Из зависимостей у (T) и ф0.9^ (Т), полученных для всех донорных газов СO, CH4, H2, NH3, H2O, C6H14 и C2H5OH, следует, что в интервале температур 400 - 6000С для всех исследованных ПОМ dу/dT>0 и dg/dT ~ - dф0.9^/dT > 0. Отсюда следует, что dg/dу > 0, т.е. скорость реакций симбатно изменяется с проводимостью ПОМ.
Зная характер зависимости скорости реакций (каталитической активности) от проводимости и тип полупроводника, можно, таким образом, сделать заключение о типе реакции газов с поверхностью ПОМ. Чистая SnO2 является полупроводником n - типа. Структуры SnO2 с акцепторными добавками La, Pd, Pt и Cu относятся к полупроводникам р - типа. Поэтому на основании имеющихся фактов можно утверждать, что реакции донорных газов с ПОМ, протекающие с высвобождением электронов в зону проводимости и повышением заряда поверхности, при наличии КГС должны относиться к донорным или р - реакциям независимо от типа полупроводника. Скорость этих реакций тем выше, чем ниже или ближе к валентной зоне расположен уровень Ферми. Однако, сказанное не соответствует данным Волькенштейна, согласно которому при dg/dу > 0 в случае n - полупроводника реакция указанных газов должна быть отнесена к акцепторному или n - типу, который, как известно, сопровождается захватом электронов из зоны проводимости и усилением электроотрицательности поверхности.
Для единственного акцепторного газа NО характер реакций с исследованными ПОМ на основе чистых SnO2, WO3, ZnO и структур SnO2 с добавками La, Pt и Pd при температурах выше 3000С наблюдаются те же тенденции, что и для донорных газов. Исследования по быстродействию для NO не проводились, но и для него dg/dT > 0. Для всех указанных выше ПОМ также наблюдается увеличение проводимости с температурой, т.е. dу/dT > 0. Таким образом, скорость реакций ПОМ с NО также симбатно должна изменяться с проводимостью ПОМ, dg/dу > 0. По этим признакам согласно Волькенштейну реакции акцепторного газа NO с поверхностью полупроводников n - типа (SnO2, WO3, ZnO) должны носить акцепторный или n - характер, а реакции NO с поверхностью полупроводников р - типа SnO2 с добавками La, Pt и Pd должны относиться к донорной или р - реакции. На самом деле это не соответствует действительности. Реакции NO с полупроводниками n - типа и р - типа, как было показано в разделе 5.5 Главы 5, происходят с захватом электронов и отчетливо демонстрируют акцепторный или n - характер с уменьшением проводимости.
Отмеченные несоответствия могут объясняться присутствием на поверхности ПОМ "кислородно-гидроксильного слоя", в то время как Волькенштейн в своем труде, возможно, имел в виду чистые поверхности ПОМ без КГС. Эти обстоятельства вызывают необходимость в нахождении дополнительных критериев по определению типа реакций как для донорных, так и акцепторных газов с ПОМ в условиях присутствия на их поверхности КГС. Такой критерий был найден - это абсолютная величина чувствительности S. В самом деле, для донорных газов S = уg/у0 > 1 и это условие для всех донорных газов хорошо выполняется, иллюстрацией чего является любая из представленных в Главе 5 зависимостей S (T) для исследованных донорных газов независимо от типа полупроводника. Что касается тенденции чувствительности в зависимости от температуры, то dS/dT может быть как больше нуля (до Smax), так и меньше нуля (после Smax), что наблюдается для исследованных n и р - полупроводников (см. Главу 5). Вместе с тем, для донорного газа СО S может быть, как следует из рис.5.1, 8.2 и 8.3 меньше единицы, что свидетельствует об акцепторном характере реакции со структурами SnO2 + 1% CuO и SnO2 + 3% Pd + Al2O3 (кат. слой).
Для акцепторного газа NO чувствительность S = 1/S* = уg/у0 < 1 и dS/dT > 0. Указанные тенденции и наблюдаются в действительности, иллюстрацией чего являются графики зависимостей S (Т) для NO на рис.8.1 для чистой SnO2, а также для других исследованных в этом газе ПОМ (рис.5.9). Критерии по определению типа реакций газов с ПОМ в условиях существования на их поверхности КГС представлены в таблице 8.1.
Таблица 8.1 Критерии по определению типа реакций газов с ПОМ в условиях существования на их поверхности КГС.
n - полупроводник |
р - полупроводник |
||
n - реакция |
dg/dу > 0 S < 1 |
dg/dу > 0 S < 1 |
|
p - реакция |
dg/dу > 0 S > 1 |
dg/dу > 0 S > 1 |
8.3 Чувствительность и селективность ПОМ к анализируемым газам.
По результатам температурных исследований чувствительности для каждого типа ПОМ были построены графики S (T), отдельные из которых показаны в Главе 5. Здесь мы ограничимся показом только таких зависимостей, по которым можно сделать выводы о селективности ПОМ к двум газам NO и СО. Исходя из критериев, приведенных в таблице 8.1, акцепторный или n-тип характер реакций взаимодействия NO наблюдается со структурами на основе чистой SnO2 и SnO2 с каталитическими добавками 3% La2O3, 1% Sb2О5 + 3% La2О3 и 1% Pt + 3% Pd.
Рис.8.1 Чувствительность чистой SnO2 к различным газам.
Чистая SnO2 сохраняет акцепторный характер взаимодействия с NO (рис.8.1) без изменений вида зависимости S (T) вплоть до температуры 6000С. Отмеченные закономерности особенно характерны для сухого воздуха. Влажность воздуха при RH > 10 - 20% способствует необратимости акцепторного характера взаимодействия NO c поверхностью ПОМ. Это наглядно показано в диссертации на примере структур на основе чистых SnO2 и ZnO и структуры SnO2 + 1% Pt + 3% Pd. Такой же характер взаимодействия NO наблюдается для чистой WO3. Акцепторный или n - тип реакций NO с ПОМ является критерием селективности сенсоров к этому газу по отношению ко всем остальным исследованным газам.
Вторым газом, который демонстрирует аналогичные закономерности в сухом воздухе, является СО. Достаточно посмотреть на рис.8.2 и 8.3, чтобы в этом убедиться. Реакции СО со структурами SnO2 + 3 % Pd с каталитическим слоем из Al2O3 и SnO2 + 1% CuO в интервале температур 150 - 3500С имеют ярко выраженный акцепторный или n - тип характер реакций. В этой области температур указанные ПОМ селективны к СО по отношению к остальным газам, кроме, может быть, NO.
Из полученных нами графиков S (T) следует, что чувствительность ПОМ к различным донорным газам при температурах выше 4500С имеет сравнительно высокие и вместе с тем достаточно близкие значения. Пожалуй единственным исключением здесь является пара СО-СН4 при взаимодействии со структурой SnO2 + 3% Pd с каталитическим слоем из Al2O3: эта структура практически не чувствует СО в то время как его чувствительность к СН4 имеет значение ? 4-5 в оптимальной области температур.
Все отмеченные явления относятся к газам с равными концентрациями 200 ppm в сухом воздухе. К сожалению, измерить низкую концентрацию газа (того же СО) на фоне высокой концентрации другого газа (СН4) на сегодня довольно затруднительно, если характеры реакций газов принадлежат к одному типу. Единственным исключением здесь является структура SnO2 + 1% CuO (рис.8.3), которая проявляет селективные свойства к различным газам (в том числе к СО) по отношению к СН4 при температурах ниже 4500С. Для решения той же задачи следует пристальней присмотреться к структуре SnO2 + 3 % Pd с каталитическим слоем из Al2O3 и предложить следующий
Рис.8.3 Чувствительность структуры SnO2 + 1% CuO к различным газам.
Рис.8.2 Чувствительность структуры SnO2 (Pd, Al2O3) к различным газам.
В двух - температурный режим работы сенсора: при нагреве до 200 - 3000С производить измерения СО при акцепторном характере реакции, а при 450 - 5000С - измерения СН4 при донорном характере реакции.
Заключение
В процессе реализации целей и задач, поставленных в Общей характеристике работы, были выполнены исследования, перечень которых отражен в разделах “Научная новизна" и “Основные положения, выносимые на защиту”. Отметим, что большинство исследований и полученных в процессе их выполнения результатов по характеристикам и свойствам исследованных ПОМ представлены впервые. Во избежание повторяемости мы остановимся здесь на наиболее существенных, с нашей точки зрения, выводах, вытекающих из проделанной работы.
1. Разработан универсальный экспериментально измерительный комплекс для исследования и калибровки образцов газочувствительных датчиков разных типов (полупроводниковых, термокаталитических, оптических и т.д.) в газовых смесях воздуха, азота, аргона и т.д. с различными (в том числе токсичными) газами.
2. По результатам исследований образцов ПОМ в азоте, сухом и влажном воздухе установлено, что проводимость является результатом химических превращений молекул кислорода и воды на каталитически активных поверхностях ПОМ, и однозначно отображает процесс формирования хемосорбированных ионов О? и О2 - и гидроксильных групп ОН? в кислородно-гидроксильном слое (КГС) на поверхности ПОМ. По экспериментальным данным дана оценка состава КГС, построены графики хемосорбции ионов кислорода О? и О2 - и гидроксильных групп ОН? в зависимости от температуры. Установлено, что формирование иона О? происходит до температур 400-5000С с максимумом в интервале 110 - 2200С, а формирования иона О2 - от температур 250-3000С с максимумом в области 6500С. Показано, что формирование гидроксильных групп происходит во всем исследованном интервале температур от комнатной до 6500С.
Установлено, что концентрация хемосорбированных ионов в КГС определяется концентрацией электронов в зоне проводимости ПОМ. Показано, что, по крайней мере, при температурах выше 350-4000С общее количество активных центров (ионов Sn4+), занятых ионами О2 - и группами ОН?, будет неизменным и перераспределяется между указанными ионами с изменением влажности. Установлено, что при увеличении влажности воздуха и температуры ПОМ в КГС все более будут превалировать гидроксильные группы и реакции продуктов диссоциации газов с ними.
3. По результатам выполненных систематических исследований структур ПОМ в газовых смесях воздуха с СО, СН4, Н2, NH3, NO в широком диапазоне концентраций и влажности от 0 до 100% RH установлено, что сопротивление и чувствительность образцов ПОМ слабо зависят от влажности газовой среды при RH ? 0 - 10 %. Определены оптимальные структуры ПОМ для регистрации газов: SnO2 + 1% Sb2O5 + 3% La2O3 (СО, 4500С), SnO2 + 1% Pt + 3% Pd (СН4, 4000С), чистая SnO2 (Н2, 5000С), SnO2 + 3% La2O3 (NН3, 5000С) и чистая WO3 (NO, 3500С). Для всех исследованных газов и ПОМ получены эмпирические концентрационные зависимости, описывающие опытные данные практически во всей области концентраций в диапазоне влажности 0 (10) - 100 % RH с погрешностью до 10 - 15%.
4. По результатам проведенных 129 - суточных испытаний шести типов ПОМ на длительную стабильность и воспроизводимость показаний в газовых смесях воздуха с СО и СН4 при различных температурах нагрева и влажности воздуха 55 % RH показано, что единственной мерой концентрации газовых примесей в воздухе может быть только сопротивление ПОМ, которое гораздо меньше подвержено временным и "биографическим" факторам. Установлено, что для регистрации СО и СН4 наилучшей по стабильности и воспроизводимости показаний является структура SnO2 + 3% La2O3, нагретая до 5000С. Воспроизводимость показаний для этой структуры, по крайней мере, с шестого дня испытаний не превышает 4.5 % для СО и 3 % для СН4.
5. Получены новые данные для порога чувствительности Сmin к анализируемым газам в сухом и влажном воздухе, значения которых во много раз (иногда на порядки) ниже литературных данных для сухого воздуха. Так величина Сmin при чувствительности S = 1.1 в диапазоне влажности 0 (10) - 100 % RH составляет: 0.80 ppm CO для структуры SnO2 + 1% Sb2O5 +3% La2O3 при температуре 4500С, 10 ppm CН4 для структуры SnO2 + 1% Pt +3% Pd (4000С), 0.06 ppm Н2 для чистой SnO2 (5000С), 0.8 ppm NН3 для структуры SnO2 + 3% La2O3 (5000С) и 1.6 ppm NО для структуры WO3 (3500С).
6. Представлены наиболее вероятные, по мнению автора, химические реакции взаимодействия газов с поверхностью ПОМ, построенные по схеме: диссоциация газа > реакции продуктов диссоциации с обоими хемосорбированными ионами О2 - и ОН?, входящими в состав КГС. Впервые представлены реакции регенерации ПОМ в сухом и влажном воздухе после удаления газов. Для каждой реакции газов с КГС представлен баланс электронов, хемосорбированных ионов и дополнительных вакансий кислорода.
7. На основе анализа экспериментальных данных по проводимости и чувствительности ПОМ определены новые критерии по установлению типа реакций для донорных и акцепторных газов с ПОМ в условиях существования на их поверхности "кислородно-гидроксильного" слоя. Установлено, что реакции СO, CH4, H2, NH3, H2O с поверхностью исследованных ПОМ должны быть отнесены к донорному или р-типу реакции независимо от типа полупроводника, а реакция NО с поверхностью ПОМ к акцепторному или n - типу реакции, особенно, при концентрациях выше 1-10 ppm NО и влажности выше 10% RH.
В Библиографии представлен список цитируемой литературы из 155 наименований.
В Приложении 1 изложены технологические аспекты приготовления образцов ПОМ на основе двуокиси олова с различными каталитическими добавками. В Приложении 2 приведено описание газо-смесительной установки. В Приложении 3 представлено описание универсального газового стенда для прецизионной калибровки приборов по измерению расхода воздуха.
Материалы диссертации представлены в следующих основных публикациях
1. V.V. Malyshev, A.A. Vasiliev, A.V. Eryshkin, E.A. Koltypin etc, “Gas sensitivity of SnO2 and ZnO thin-film resistive sensors to hydrocarbons, carbon monoxide and hydrogen”, Sens. Actuators B, 10, 1992, 11-14.
2. V.V. Malyshev, A.V. Eryshkin, E.A. Koltypin, A.E. Varfolomeev, A.A. Vasiliev, ”Gas sensitivity of semiconductor Fe2O3 - based thick-film sensors to CH4, H2 and NH3”, Sens. Actuators B, 18-19, 1994, 434-436.
3. А.Е. Варфоломеев, А.А. Васильев, A.В. Ерышкин, В.В. Малышев, А.С. Разумов, “Чувствительность к NH3 как функция потенциального барьера в толстоплёночных сенсорах на основе Fe2O3”, ЖАХ, 50, № 1, 1995, 42-44.
4. V.V. Malyshev, A.V. Pislyakov, ”SnO2-based thick-film-resistive sensor for H2S detection in the concentration range of 1 - 10 mg·m-3”, Sens. Actuators B, 47, 1998, 181-188.
5. В.В. Малышев, А.В. Писляков, “Селективный газовый сенсор метана”, Датчики и системы, № 8, 2000, 46-49.
6. В.В. Малышев, А.В. Писляков, И.Ф. Крестников, В.А. Крутов, С.Н. Зайцев, “Чувствительность полупроводниковых газовых сенсоров к водороду и кислороду в инертной газовой среде”, ЖАХ, 56, № 9, 2001, 976-983.
7. В.В. Малышев, А.В. Писляков, “Быстродействие полупроводниковых металлооксидных толстоплёночных сенсоров и их чувствительность к различным газам в воздушной газовой среде. Часть 1. Технология получения и конструкция газовых сенсоров. Методика эксперимента и обработки данных. Результаты измерений для метана, водорода и окиси углерода”, Сенсор, № 1, 2001, 2-15.
8. В.В. Малышев, А.В. Писляков, “Быстродействие и чувствительность полупроводниковых металлооксидных толстоплёночных сенсоров к различным газам в воздушной газовой среде. Часть 2. Результаты измерений для гексана, этанола, аммиака и сероводорода”, Сенсор, № 3 (5), 2002, 11-22.
9. V.V. Malyshev, A.V. Pislyakov, “Dynamic properties and sensitivity of semiconductor metal-oxide thick-film sensors to various gases in air gaseous medium”, Sens. Actuators B, 96, 2003, 413-434.
10. V.V. Malyshev, A.V. Pislyakov, “Investigation of gas-sensitivity of sensor structures to carbon monoxide in a wide range of temperature, concentration and humidity of gas medium”, Sens. Actuators B, 123, 2007, 71-81.
11. V.V. Malyshev, A.V. Pislyakov, “Investigation of gas-sensitivity of sensor structures to hydrogen in a wide range of temperature, concentration and humidity of gas medium”, Sens. Actuators B, 134, 2008, 913-921.
12. V.V. Malyshev, “Response of Semiconducting Metal Oxides to Water Vapor as a Result of Water Chemical Transformations on Catalytically Active Surfaces”, Rus. J. Phys. Chem. A, 82, № 13, 2008, 2329-2339.
13. В.В. Малышев, А.В. Писляков, “Исследование газочувствительности полупровод-никовых оксидов металлов на основе двуокиси олова к метану в широкой области температур, концентраций и влажности газовой среды”, ЖАХ, 64, № 1, 2009, 99-110 (принята в печать).
Размещено на Allbest.ru
...Подобные документы
Кинетика химических реакций и массообмена пористых углеродных частиц с газами с учетом эндотермической реакции и стефановского течения. Влияние температуры и диаметра частицы на кинетику химических реакций и тепломассообмен углеродной частицы с газами.
дипломная работа [1,8 M], добавлен 14.03.2008Методы получения наноразмерных объектов и контроля их характеристик. Изменение механических, электрических, магнитных, оптических и химических свойств металлов при переходе в наносостояние. Определение характеристик наноразмерных частиц в суспензиях.
реферат [1,2 M], добавлен 26.06.2010Энергетическое разрешение полупроводникового детектора. Механизмы взаимодействия альфа-частиц с веществом. Моделирование прохождения элементарных частиц через вещество с использованием методов Монте–Карло. Потери энергии на фотоядерные взаимодействия.
курсовая работа [502,5 K], добавлен 07.12.2015Электрофизические свойства полупроводников. Структура полупроводниковых кристаллов. Элементы зонной теории твердого тела. Микроструктурные исследования влияния электронного облучения на электрофизические характеристики полупроводниковых приборов.
курсовая работа [1,0 M], добавлен 18.09.2015Осаждение пленочных покрытий сложного химического состава (оксидов, нитридов, металлов). Проблема магнетронного осаждения. Исследование влияние нестабильности мощности и давления магнетронного разряда на процесс осаждения пленок, результаты экспериментов.
диссертация [1,1 M], добавлен 19.05.2013Физические основы и практические результаты использования проникающих излучений в технологии ядерного легирования полупроводниковых материалов. Их применение в производстве полупроводниковых приборов, мощных кремниевых диодов, тиристоров и транзисторов.
курсовая работа [1,9 M], добавлен 08.06.2015Физика полупроводников. Примесная проводимость. Устройство и принцип действия полупроводниковых приборов. Способы экспериментального определения основных характеристик полупроводниковых приборов. Выпрямление тока. Стабилизация тока.
реферат [703,1 K], добавлен 09.03.2007Механизм возникновения инверсной населенности. Особенности генерации в химических лазерах, способы получения исходных компонентов. Активная среда лазеров на центрах окраски, типы используемых кристаллов. Основные характеристики полупроводниковых лазеров.
презентация [65,5 K], добавлен 19.02.2014Растворение разнообразных веществ как одно из основных свойств воды на планете, его значение. Сущность физического процесса несмачивания и смачивания поверхностей. Отличительные черты поведения молекул воды на смачиваемых и несмачиваемых поверхностях.
презентация [569,6 K], добавлен 19.05.2014Атомная структура железа. Дефекты шлаковых и газовых раковин в отливках. Различие между твердым и жидким фазовыми состояниями. Промежуточные фазы, которые могут быть в металлических сплавах. Хрупкое и вязкое разрушение. Понятие изоморфных металлов.
контрольная работа [18,4 K], добавлен 01.10.2010Системы условных обозначений при использовании полупроводниковых приборов в электронных устройствах для унификации их обозначения и стандартизации параметров. Графические обозначения и стандарты. Биполярные транзисторы, принципы и правила их обозначения.
презентация [338,7 K], добавлен 09.11.2014Перспективы методов контроля оптической толщины покрытий различного функционального назначения. Контроль толщины оптических покрытий на основе тугоплавких оксидов формируемых методом электронно-лучевого синтеза. Расчёт интерференционных покрытий.
дипломная работа [2,7 M], добавлен 18.03.2015Основные принципы действия электронных, ионных и полупроводниковых приборов. Движение свободных частиц. Четыре группы частиц, используемых в полупроводниковых приборах: электроны, ионы, нейтральные атомы, или молекулы, кванты электромагнитного излучения.
реферат [619,2 K], добавлен 28.11.2008Определение тока утечки, мощности потери, удельных диэлектрических потерь при включении образца на переменное напряжение. Классификация и основные свойства полупроводниковых материалов. Физический смысл и область использования магнитных материалов.
контрольная работа [93,7 K], добавлен 28.10.2014Достижения современной планарной технологии и значение в них физики поверхностей. Трехслойная система как базовая структура микроэлектроники. Влияние поверхности на работу полупроводниковых приборов: оптоэлектронные приборы, сверхпроводящие пленки.
курсовая работа [1,0 M], добавлен 17.05.2009Методы и средства изучения свойств наноструктур. Экспериментальное исследование электрофизических параметров полупроводниковых материалов. Проведение оценочных расчетов теоретического предела минимального размера изображения, получаемого при литографии.
дипломная работа [810,6 K], добавлен 28.03.2016Полупроводниковое аппаратостроение на основе силовой электроники. Преимущества и недостатки силовых полупроводниковых аппаратов, требования к ним в эксплуатационных режимах. Современная силовая электроника. Разработки силовых полупроводниковых приборов.
курсовая работа [2,3 M], добавлен 10.06.2014Коэффициент теплопроводности металлов и его зависимость от параметров состояния вещества. Главные особенности калориметрического метода. Методические рекомендации к выполнению лабораторной работы "Определение коэффициента теплопроводности металлов".
курсовая работа [79,4 K], добавлен 05.07.2012Исследование физических и химических свойств наноразмерных структур, разработка методов по изучению их синтеза. Критерии эффективного внедрения нанотехнологий в промышленность. Сущность и особенности использования метода электрической эрозии в жидкости.
реферат [22,7 K], добавлен 24.06.2010Краткий обзор основных направлений синтеза полупроводниковых нанопроводов и наностержней, общее описание основных подходов к синтезу такого рода наночастиц. Попытка анализа закономерностей протекания самоорганизации наночастиц и ее возможных причин.
курсовая работа [2,8 M], добавлен 28.05.2013